[发明专利]镜头阴影校正系数确定方法、镜头阴影校正方法及装置有效
申请号: | 201210127945.0 | 申请日: | 2012-04-27 |
公开(公告)号: | CN103377474A | 公开(公告)日: | 2013-10-30 |
发明(设计)人: | 王毫杰;申冬;彭茂;胡文阁 | 申请(专利权)人: | 比亚迪股份有限公司 |
主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;H04N9/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518118 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种镜头阴影校正系数确定方法、镜头阴影校正方法及装置,所述镜头阴影校正系数确定方法包括以下步骤:获取灰度图像上每个像素点的参考校正系数;生成二维校正曲面;第一次曲线拟合;第二次曲线拟合;计算出每个像素点坐标对应的镜头阴影校正系数。本发明还公开了一种镜头阴影校正系数确定装置。所述镜头阴影校正方法包括以下步骤:获取待校正图像;获取镜头阴影校正系数;用像素值乘以镜头阴影校正系数,得到校正后图像。本发明还公开了一种镜头阴影校正装置。本发明提供的镜头阴影校正系数确定方法、镜头阴影校正方法及装置适合用于对各种类型镜头拍摄的图像进行镜头阴影校正,校正效果较好,且实现方法简单,硬件实现面积小。 | ||
搜索关键词: | 镜头 阴影 校正 系数 确定 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种镜头阴影校正系数确定方法,其特征在于,包括:获取灰度图像上每个像素点的参考校正系数;由所获取的参考校正系数生成像素点坐标平面上的二维校正曲面; 第一次曲线拟合:对二维校正曲面上的每一行进行一元高次幂多项式拟合,得到所述参考校正系数的一元高次幂多项式; 第二次曲线拟合:对第一次曲线拟合所获得的一元高次幂多项式的相同高次幂的拟合系数再次进行一元高次幂多项式拟合,得到相同高次幂的拟合系数的一元高次幂多项式;根据所述参考校正系数的一元高次幂多项式和相同高次幂的拟合系数的一元高次幂多项式计算出每个像素点坐标对应的镜头阴影校正系数。
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