[发明专利]镜头阴影校正系数确定方法、镜头阴影校正方法及装置有效

专利信息
申请号: 201210127945.0 申请日: 2012-04-27
公开(公告)号: CN103377474A 公开(公告)日: 2013-10-30
发明(设计)人: 王毫杰;申冬;彭茂;胡文阁 申请(专利权)人: 比亚迪股份有限公司
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;H04N9/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518118 广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 镜头 阴影 校正 系数 确定 方法 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及图像处理领域,尤其涉及一种镜头阴影校正系数确定方法、镜头阴影校正方法及装置。

背景技术

众所周知,当使用微透镜成像时,图像传感器上的像素点所采集的光照亮度与入射光的角度有关,靠近透镜中心的部位会亮些,而靠近边缘的部位则暗一些。这会使得边缘部分的像素点采集的光信号偏弱,为校正这一现象,需要一种方法来对其进行处理,镜头阴影校正(Lens Shading Correction)就是利用一定的算法将成像过程中由镜头等光学原因所产生的阴影校正并去除。

镜头阴影校正的原理就是找出镜头每个像素点的校正系数,然后根据当前采样数据计算出实际值。所以镜头阴影校正的首要任务就是找出每个像素点校正系数,然后用较理想的方法去拟合所有像素点的校正系数。对于拟合方法,当前较普遍的做法是,找出图像最亮点,并按照各点的校正系数与其到中心点的距离的平方成线性关系进行拟合。上述实现方法相对简单,但对于像素较大的镜头,本发明的发明人在对现有技术研究和实践过程中发现:其从中心点出发各个方向上校正系数变化成梯度不同,即:图像亮度从中心点向四周成椭圆甚至不规则图形变化,因此采用上述方法时校正效果不理想。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的镜头阴影校正效果不理想的技术问题,提供一种校正效果较好的镜头阴影校正系数确定方法、镜头阴影校正方法及装置。

本发明提供的一种镜头阴影校正系数确定方法,包括:

获取灰度图像上每个像素点的参考校正系数;

由所获取的参考校正系数生成像素点坐标平面上的二维校正曲面; 

第一次曲线拟合:对二维校正曲面上的每一行进行一元高次幂多项式拟合,得到所述参考校正系数的一元高次幂多项式; 

第二次曲线拟合:对第一次曲线拟合所获得的一元高次幂多项式的相同高次幂的拟合系数再次进行一元高次幂多项式拟合,得到相同高次幂的拟合系数的一元高次幂多项式;

根据所述参考校正系数的一元高次幂多项式和相同高次幂的拟合系数的一元高次幂多项式计算出每个像素点坐标对应的镜头阴影校正系数。

本发明还提供一种镜头阴影校正方法,包括:

获取待校正图像,按像素点坐标顺序获取当前像素点坐标对应像素点的像素值;

获取与当前像素点坐标对应的镜头阴影校正系数,其中,所述镜头阴影校正系数的确定方法为:获取灰度图像上每个像素点的参考校正系数;由所获取的参考校正系数生成像素点坐标平面上的二维校正曲面;对二维校正曲面上的每一行进行一元高次幂多项式拟合,得到所述参考校正系数的一元高次幂多项式;对所获得的一元高次幂多项式的相同高次幂的拟合系数再次进行一元高次幂多项式拟合,得到相同高次幂的拟合系数的一元高次幂多项式;最后,根据所述参考校正系数的一元高次幂多项式和相同高次幂的拟合系数的一元高次幂多项式计算出每个像素点坐标对应的镜头阴影校正系数;

用获取的所述像素值乘以获取的所述镜头阴影校正系数,得到校正后图像并输出。

本发明还提供一种镜头阴影系数确定装置,包括:

参考校正系数获取单元,用于获取灰度图像上每个像素点的参考校正系数;

二维校正曲面生成单元,用于由所获取的参考校正系数生成像素点坐标平面上的二维校正曲面; 

第一次曲线拟合单元,用于对二维校正曲面上的每一行进行一元高次幂多项式拟合,得到所述参考校正系数的一元高次幂多项式; 

第二次曲线拟合单元,用于对第一次曲线拟合所获得的一元高次幂多项式的相同高次幂的拟合系数再次进行一元高次幂多项式拟合,得到相同高次幂的拟合系数的一元高次幂多项式; 

镜头阴影校正系数计算单元,用于根据所述参考校正系数的一元高次幂多项式和相同高次幂的拟合系数的一元高次幂多项式计算出每个像素点坐标对应的镜头阴影校正系数。

本发明还提供一种镜头阴影校正装置,包括:

图像获取单元,用于获取待校正图像,按像素点坐标顺序获取当前像素点坐标对应像素点的像素值并输出;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于比亚迪股份有限公司,未经比亚迪股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210127945.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top