[发明专利]显影剂组合物和形成光刻图案的方法在审
| 申请号： | 201210126631.9 | 申请日： | 2012-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN102681367A | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | Y·C·裴;李承泫 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;G03F7/09;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 显影剂组合物和形成光刻图案的方法。本发明提供了包括有机溶剂混合物的光致抗蚀剂显影剂组合物。本发明还提供了使用负型显影形成光刻图案的方法，涂覆的基板和通过所述方法形成的电子器件。本方法在电子器件的制造中找到了特别的应用性。提供了一种光致抗蚀剂显影剂组合物，包括第一有机溶剂和第二有机溶剂的混合物，其中第一有机溶剂选自环C6酮，线性或支化的C7酮，线性或支化的C5-C6的羟基烷基酯和线性或支化的C5-C6的烷氧基烷基酯，以及第二有机溶剂选自线性或支化的未取代C6-C8的烷基酯和线性或支化的C8-C9酮。 | ||
| 搜索关键词： | 显影剂 组合 形成 光刻 图案 方法 | ||
【主权项】：
一种光致抗蚀剂显影剂组合物，包括第一有机溶剂和第二有机溶剂的混合物，其中第一有机溶剂选自环C6酮，线性或支化的C7酮，线性或支化的C5‑C6的羟基烷基酯和线性或支化的C5‑C6的烷氧基烷基酯，以及第二有机溶剂选自线性或支化的未取代C6‑C8的烷基酯和线性或支化的C8‑C9酮。
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