[发明专利]形成标记的方法无效
| 申请号： | 201210124982.6 | 申请日： | 2012-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN103376584A | 公开（公告）日： | 2013-10-30 |
| 发明（设计）人： | 李文晖;张一凡;杨仁铭 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京维澳专利代理有限公司 11252 | 代理人： | 马佑平;王立民 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明关于一种形成标记的方法，包括提供高能量光束，调整高能量光束形成聚焦点，使聚焦点位于基板内部的显示区，使基板上的聚焦点处的材料产生碳化，以及移动聚焦点，以于基板内部的显示区中形成标记。并可利用上述形成标记的方法，在需组立的不同基板上形成对应标记，以将此些基板进行对位组立。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 标记 方法 | ||
【主权项】：
一种形成标记的方法，用于在一基板上形成一标记，该方法包括下列步骤：提供一高能量光束；调整该高能量光束形成一聚焦点，使该聚焦点位于该基板内部的显示区，且让该基板上的该聚焦点处的材料产生碳化；以及移动该聚焦点，以于该基板内部的显示区形成该标记。
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