[发明专利]形成标记的方法无效
| 申请号： | 201210124982.6 | 申请日： | 2012-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN103376584A | 公开（公告）日： | 2013-10-30 |
| 发明（设计）人： | 李文晖;张一凡;杨仁铭 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京维澳专利代理有限公司 11252 | 代理人： | 马佑平;王立民 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 形成 标记 方法 | ||
1.一种形成标记的方法，用于在一基板上形成一标记，该方法包括下列步骤：
提供一高能量光束；
调整该高能量光束形成一聚焦点，使该聚焦点位于该基板内部的显示区，且让该基板上的该聚焦点处的材料产生碳化；以及
移动该聚焦点，以于该基板内部的显示区形成该标记。
2.如权利要求1所述的形成标记的方法，其特征在于，其中移动该聚焦点的步骤，进一步包括：
在垂直方向移动该聚焦点。
3.如权利要求2所述的形成标记的方法，其特征在于，其中移动该聚焦点的步骤，进一步包括：
在水平方向移动该聚焦点。
4.如权利要求1所述的形成标记的方法，其特征在于，其中移动该聚焦点的步骤，进一步包括：
使该聚焦点由该基板上的一第一位置，经过一第一移动路径，移动至一第二位置，使该基板上的该第一位置、该第一移动路径以及该第二位置处的材料产生碳化。
5.如权利要求4所述的形成标记的方法，其特征在于，其中移动该聚焦点的步骤，进一步包括：
使该聚焦点由该基板上的一第三位置，经过一第二移动路径，移动至一第四位置，使该基板上的该第三位置、该第二移动路径以及该第四位置处的材料产生碳化。
6.如权利要求5所述的形成标记的方法，其特征在于，其中该第一移动路径与该第二移动路径为相互平行或相互交错。
7.如权利要求6所述的形成标记的方法，其特征在于，其中该第一移动路径与该第二移动路径为相互交错时，具有一90度夹角。
8.如权利要求5所述的形成标记的方法，其特征在于，其中该基板分为一上基板与一下基板，该上基板位于该下基板的上方，该第一移动路径位于该上基板上，该第二移动路径位于该下基板上，该第一移动路径与该第二移动路径为相互平行。
9.如权利要求5所述的形成标记的方法，其特征在于，其中该基板分为一上基板与一下基板，该上基板位于该下基板的上方，该第一移动路径位于该上基板上，该第二移动路径位于该下基板上，该第一移动路径与该第二移动路径于投影位置上具有一夹角。
10.如权利要求1所述的形成标记的方法，其特征在于，其中该基板为软性基板。
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