[发明专利]形成标记的方法无效

专利信息
申请号: 201210124982.6 申请日: 2012-04-25
公开(公告)号: CN103376584A 公开(公告)日: 2013-10-30
发明(设计)人: 李文晖;张一凡;杨仁铭 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333
代理公司: 北京维澳专利代理有限公司 11252 代理人: 马佑平;王立民
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 形成 标记 方法
【说明书】:

技术领域

发明关于一种形成标记的方法,且特别是关于一种在液晶显示装置的制程中,在基板上形成标记的方法。

背景技术

液晶显示装置因为其轻薄的特性,以成为现阶段显示装置市场的主流。液晶显示装置的显像原理,是由数组状态的复数像素所组成,例如在一片分辨率为1920x1080的液晶显示面板上,就包括有上百万个像素与其各自对应的组件,构造非常精细,而液晶显示面板又是由两片以上的基板所组成,基板与基板之间的组立必须达到非常高的精确度,才能使为数众多的组件与像素能够精确对位,否则将影响显示效果。在传统制程中,最基本的基板对位方式为对位机台的机械式对位,为将所需组立的两片基板放置在对位机台上的卡座,以此卡座为对位基准进行组立,但此种方式容易造成较大的误差。因此又开发了标记对位的方法。所谓标记对位,比如在液晶显示面板的数组(Array)段制程中,在需要组立的多个基板的表面上,制作有相对应的金属材料的标记,在进行组立时,以光学对位系统辨识标记的坐标位置,以便将需要组立的多个基板上的多个标记,予以对齐,对齐之后再进行组立,此种对位组立的方法可以得到较高的精确度。但此方法的问题在于,基板表面和金属标记彼此之间的结合力不足,而有脱落的可能性,此种情况特别容易发生在软性基板上,因软性基板的材料如高分子材料的热膨胀系数和标记的金属材料差异较大,更容易产生标记脱落的情况。

发明内容

有鉴于此,本发明的目的在提出一种形成标记的方法,其通过将高能量光束聚焦在基板内部,使聚焦点处的基板的材料产生碳化,形成标记,以期能避免标记脱落的情况。

为达到上述目的,本发明提出一种形成标记的方法,用于在基板上形成标记,此方法包括下列步骤:提供高能量光束,调整高能量光束形成聚焦点,使聚焦点位于基板内部的显示区,且让基板上的聚焦点处的材料产生碳化,以及移动聚焦点,以于基板内部的显示区中形成标记。

在本发明一实施例中,所述移动聚焦点的步骤,进一步包括,在垂直方向移动聚焦点。

在本发明一实施例中,所述移动聚焦点的步骤,进一步包括,在水平方向移动聚焦点。

在本发明一实施例中,所述移动聚焦点的步骤,进一步包括,使聚焦点由基板上的第一位置,经过第一移动路径,移动至第二位置,使基板上的第一位置、第一移动路径以及第二位置处的材料产生碳化。

在本发明一实施例中,所述移动聚焦点的步骤,进一步包括,使聚焦点由基板上的第三位置,经过第二移动路径,移动至第四位置,使基板上的第三位置、第二移动路径以及第四位置处的材料产生碳化。

在本发明一实施例中,所述第一移动路径与第二移动路径为相互平行或相互交错。

在本发明一实施例中,所述第一移动路径与第二移动路径为相互交错时,具有90度夹角。

在本发明另一实施例中,所述基板分为上基板与下基板,上基板位于下基板的上方,第一移动路径位于上基板上,第二移动路径位于下基板上,第一移动路径与第二移动路径为相互平行。

在本发明又一实施例中,所述基板分为上基板与下基板,上基板位于下基板的上方,第一移动路径位于上基板上,第二移动路径位于下基板上,第一移动路径与第二移动路径于投影位置上具有夹角。

在本发明一实施例中,所述基板为软性基板。

本发明所提出的一种形成标记的方法,其标记为基板内部材料的碳化而形成,因而此标记不会因为热膨胀系数的差异或附着力不足而脱落,并且采用此种标记而进行基板的对位组立时,还能提升组立时的精确度。

附图说明

本发明上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:

图1所示为本发明一优选实施例的形成标记的流程图。

图2a至图2f所示为本发明一优选实施例的形成标记的流程示意图。

图3所示为本发明一优选实施例的基板对位组立的流程图。

图4a至图4d所示为本发明一优选实施例的基板对位组立的流程示意图。

图5所示为本发明一优选实施例的形成标记于基板显示区的示意图。

主要组件符号说明

10:激光产生装置

11:聚焦点

12:激光

20、95:基板

21:第一位置

22:第二位置

23:第三位置

24:第四位置

25、32、42、96:显示区

30:第一基板

31:第一标记

40:第二基板

41:第二标记

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司,未经友达光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210124982.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top