[发明专利]曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法有效
| 申请号： | 201210110459.8 | 申请日： | 2006-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN102636966A | 公开（公告）日： | 2012-08-15 |
| 发明（设计）人： | 柴崎佑一 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明为曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法，从投影单元(PU)正下方的曝光区域于Y轴方向分离的量测区域内，由于是一边使对准系统(ALG)的检测区域往Y方向移动、一边依序检测复数个标记，因此与现有固定对准系统而仅移动晶片载台(WST1、WST2)、同时进行标记检测的情形相比，能使标记检测时晶片载台往Y方向的移动量较小。由此，可使量测区域在Y方向的宽度较小，而谋求装置小型化。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 装置 以及 元件 制造 | ||
【主权项】：
一种曝光方法，用于使物体曝光，其特征在于：在相对该物体进行曝光的曝光区域至少于第1方向位置相异的量测区域内，于该第1方向移动标记检测系统的检测区域，以检测该物体上的复数个标记；使用该标记的检测结果在该曝光区域内移动该物体。
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