[发明专利]一种用于制备硅片表面硅纳米柱阵列的溶液及制备方法有效
| 申请号： | 201210087660.9 | 申请日： | 2012-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN102534716A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 蒋永锋;包晔峰;杨可 | 申请（专利权）人： | 河海大学常州校区 |
| 主分类号： | C25D7/12 | 分类号： | C25D7/12;C25D9/08;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 213022 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种用于制备硅片表面硅纳米柱阵列的溶液及制备方法，把硅片置入如下溶液中：包括组分：硅酸盐5-10%，有机醇5-10%，水80-85%，以重量百分比计；所述硅酸盐为硅酸钠或硅酸钾，所述有机醇为乙醇或丙三醇，所述水为去离子水；以硅片为阴极，以惰性电极材料为阳极，在500-700V电压下，处理1-3分钟，取出硅片，即可得到双面排列硅纳米柱阵列的硅片；该方法与环境兼容性好，因溶液为室温，处理速度快，简化了硅片的处理工序，具有处理效率高、节能、环保的特点；同时本发明处理后的硅片表面纳米柱阵列的纳米柱直径和高度可根据工艺调整，纳米柱的分布密度也可根据工艺可调，这样降低了成本，提高了光的转化效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 制备 硅片 表面 纳米 阵列 溶液 方法 | ||
【主权项】：
一种用于制备硅片表面硅纳米柱阵列的溶液，其特征在于，包括如下组分：硅酸盐5‑10%，有机醇5‑10%，水80‑85%；以重量百分比计；所述硅酸盐为硅酸钠或硅酸钾，所述有机醇为乙醇或丙三醇，所述水为去离子水。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河海大学常州校区，未经河海大学常州校区许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210087660.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
