[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201210082022.8 | 申请日： | 2012-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN102707574A | 公开（公告）日： | 2012-10-03 |
| 发明（设计）人： | H·沃格;J·G·高森;B·D·帕尔惠斯;F·J·J·范鲍克斯台尔;李靖高 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和制造器件方法。在实施例中，具有图案形成装置支撑件的设备包括：具有第一流限制表面的第一平坦元件；包括面对第一流限制表面的第二流限制表面的第二平坦元件；支撑件驱动器，相对于所述第二平坦元件沿着特定方向线性地移动所述支撑件，其中所述第一和第二流限制表面具有在所述第一和第二流限制表面之间的一个或更多的突起和/或凹陷，其中在第一和/或第二流限制表面上的突起和/或凹陷布置成提供流阻，在垂直于所述流的第一和/或第二流限制表面的每一单位宽度上的所述流阻对于平行于所述特定方向的流比对于垂直于所述特定方向的流更低。流限制表面可以将气流引导到产生热量的驱动器部分上。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：支撑件，构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面中赋予辐射束以形成图案化的辐射束，所述支撑件包括具有第一流限制表面的第一平坦元件；投影系统，配置成将所述图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；第二平坦元件，包括面对所述第一流限制表面的第二流限制表面；和支撑件驱动器，用于驱动所述支撑件相对于所述第二平坦元件移动，其中所述第一流限制表面、所述第二流限制表面或所述第一流限制表面和第二流限制表面两者包括在所述第一流限制表面和第二流限制表面之间的突起和/或凹陷，其中所述支撑件驱动器配置成相对于所述第二平坦元件沿着特定方向线性地驱动所述支撑件，和其中在所述第一流限制表面和/或第二流限制表面上的突起和/或凹陷布置成提供流阻，在垂直于所述流的第一和/或第二流限制表面的每一单位宽度上的所述流阻对平行于所述特定方向的流比对垂直于所述特定方向的流更低。
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