[发明专利]光刻设备和器件制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种光刻设备和一种制造器件的方法。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常应用到所述衬底的目标部分上)的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。典型地，经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单个衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。还可以通过将所述图案压印到所述衬底上，而将所述图案从所述图案形成装置转移到所述衬底上。

发明内容

在图案形成装置的区域中的内部气体环境可以被控制以减小或防止具有可变的性质的污染物和/或气体(例如空气)干扰辐射束和/或图案形成装置的敏感元件。内部气体环境典型地将基本上与外部区域隔离，但是不是完全地密封。具有进入内部气体环境的出口的气体供给系统可以被设置和配置成保持内部气体环境中的过压。所述过压驱动从内部气体环境流出的大致恒定的气流。大致恒定的外流的气流帮助防止流入污染物。基本上恒定的气流可以被引导穿过密封不严的密封，例如穿过对置的流限制表面。

图案形成装置支撑件可以配置成被沿着特定方向线性地驱动。所述方向可以垂直于投影系统的轴线，其被称作为Z轴。所述方向可以称作为Y方向。

支撑件的移动可能增加内部气体环境的污染水平。例如，支撑件的移动可能增加污染破坏由对置的流限制表面提供的密封的程度。支撑件的移动可能导致在内部气体环境外面的气体环境中的不被期望的变化。这样的变化可能干扰用于测量支撑件的位置的一个或更多的装置。控制从内部气体环境流出的气流的流限制表面可以对驱动支撑件移动的系统(例如磁体系统)的过加热做出贡献。

例如期望提供解决一个或更多的上述的问题或与支撑件的移动相关的完全不同的问题的布置。

根据本发明的一个方面，提供了一种光刻设备，包括：支撑件，构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束，所述支撑件包括具有第一流限制表面的第一平坦元件；投影系统，配置成将所述图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；第二平坦元件，包括面对所述第一流限制表面的第二流限制表面；支撑件驱动器，用于驱动所述支撑件相对于所述第二平坦元件移动，其中所述第一流限制表面、所述第二流限制表面或所述第一流限制表面和第二流限制表面两者包括在所述第一流限制表面和第二流限制表面之间的突起和/或凹陷，其中所述支撑件驱动器配置成相对于所述第二平坦元件沿着特定方向线性地驱动所述支撑件，和其中在所述第一流限制表面和/或第二流限制表面上的突起和/或凹陷布置成提供流阻，在垂直于所述流的第一和/或第二流限制表面的每一单位宽度上的所述流阻对于平行于所述特定方向的流比对于垂直于所述特定方向的流更低。

根据本发明的一个方面，提供了一种光刻设备，包括：支撑件，构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中将图案赋予辐射束以形成图案化的辐射束，所述支撑件包括具有第一流限制表面的第一平坦元件；投影系统，配置成将所述图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；第二平坦元件，包括面对所述第一流限制表面的第二流限制表面；支撑件驱动器，用于驱动所述支撑件相对于所述第二平坦元件移动；和气体供给系统，配置成供给气体至所述图案形成装置的区域中的内部气体环境，其中所述光刻设备配置成使得从所述内部气体环境流出的气流穿过所述第一和第二流限制表面之间的间隙，所述第一和第二流限制表面布置成引导所述气流的至少一部分到在使用期间产生热量的所述支撑件驱动器的部件上。