[发明专利]一种金刚石-硅复合封装材料的制备方法无效
申请号: | 201210063625.3 | 申请日: | 2012-03-12 |
公开(公告)号: | CN102610531A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | 郎静;朱聪旭;马南钢;朱旭亮;马一 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48;H01L23/29;H01L23/373 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 曹葆青 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种高导热、低膨胀金刚石-硅复合封装材料的制备方法,属于电子封装材料领域。步骤为:①将金刚石微粒和体积分数40~70%硅粉与微量烧结助剂均匀混合,烧结助剂为Al或Ti粉;②将装有混合物的石墨模具放入SPS,加压20~30MPa并抽真空;③快速烧结,烧结时保温温度设定为1250~1370℃,烧结过程中采用惰性气体或真空,烧结压力为40~60MPa;④烧结结束后进行随炉冷却并在1000℃以下卸掉压力,获得致密无微裂纹的复合材料。本发明避免了烧结时间过长造成的金刚石石墨化及硅基体氧化等问题;可以通过改变原料的配比得到各种不同金刚石含量的复合材料,可操作性强,工艺简单。并且所制得的复合材料热导率高达515W/mK,热膨胀低于1.5×10-6/K,致密度达99.6%以上,可用于电子封装等领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 金刚石 复合 封装 材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种金刚石‑硅复合封装材料的制备方法,其特征在于,该方法包括下述步骤:(1)将金刚石微粒、硅粉与烧结助剂均匀混合,其中,硅粉的体积分数为40%~70%,烧结助剂的体积分数为0~10%;(2)将装有上述混合物的石墨模具放入放电等离子烧结炉,加压20~30MPa并抽真空;(3)快速烧结,烧结时保温温度设定为1250~1370℃,烧结过程中采用惰性气体或真空,烧结压力为40~60MPa;(4)烧结结束后对样品进行随炉冷却并在1000℃以下卸掉压力,以获得致密的没有微裂纹的复合材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210063625.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造