[发明专利]外参考干涉硅片对准系统有效

专利信息
申请号: 201210058040.2 申请日: 2012-03-07
公开(公告)号: CN103309163A 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: 李运锋 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人: 王光辉
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种外参考干涉硅片对准系统,包括:提供对准照明光束的照明光源模块;对所述照明光束进行偏振分束的偏振分束器;参考标记成像模块和对准标记成像模块;偏振器和探测对准信号的探测器单元;参考标记成像模块和对准标记成像模块分别具有一1/4波片,照明光束经由偏振分束器分成分别具有不同偏振成分的第一光束和第二光束,第一光束通过对准标记成像模块后投射到对准标记上,形成第一衍射波面后再次由对准标记成像模块成像;第二光束通过参考标记成像模块后投射到参考标记上,形成第二衍射波面后再次由参考标记成像模块成像;两个衍射波面分别被成像后由偏振分束器合束,使得两个衍射波面所成的像重叠,两个重叠的像通过偏振器后互相干涉形成对准信号,探测器单元对所述对准信号进行探测。
搜索关键词: 参考 干涉 硅片 对准 系统
【主权项】:
一种外参考干涉硅片对准系统,包括:提供对准照明光束的照明光源模块;对所述照明光束进行偏振分束的偏振分束器;参考标记成像模块和对准标记成像模块;偏振器和探测对准信号的探测器单元;其特征在于:参考标记成像模块和对准标记成像模块分别具有一1/4波片,照明光束经由偏振分束器分成分别具有不同偏振成分的第一光束和第二光束,第一光束通过对准标记成像模块后投射到对准标记上,形成第一衍射波面后再次由对准标记成像模块成像;第二光束通过参考标记成像模块后投射到参考标记上,形成第二衍射波面后再次由参考标记成像模块成像;两个衍射波面分别被成像后由偏振分束器合束,使得两个衍射波面所成的像重叠,两个重叠的像通过偏振器后互相干涉形成对准信号,探测器单元对所述对准信号进行探测。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司,未经上海微电子装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210058040.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top