[发明专利]外参考干涉硅片对准系统有效
申请号: | 201210058040.2 | 申请日: | 2012-03-07 |
公开(公告)号: | CN103309163A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | 李运锋 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光辉 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 参考 干涉 硅片 对准 系统 | ||
1.一种外参考干涉硅片对准系统,包括:
提供对准照明光束的照明光源模块;
对所述照明光束进行偏振分束的偏振分束器;
参考标记成像模块和对准标记成像模块;
偏振器和探测对准信号的探测器单元;
其特征在于:
参考标记成像模块和对准标记成像模块分别具有一1/4波片,照明光束经由偏振分束器分成分别具有不同偏振成分的第一光束和第二光束,第一光束通过对准标记成像模块后投射到对准标记上,形成第一衍射波面后再次由对准标记成像模块成像;第二光束通过参考标记成像模块后投射到参考标记上,形成第二衍射波面后再次由参考标记成像模块成像;两个衍射波面分别被成像后由偏振分束器合束,使得两个衍射波面所成的像重叠,两个重叠的像通过偏振器后互相干涉形成对准信号,探测器单元对所述对准信号进行探测。
2.根据权利要求1所述的对准系统,其中,所述参考标记成像模块和所述对准标记成像模块中的至少一个具有光程补偿器。
3.根据权利要求2所述的对准系统,其中,所述光程补偿器为Solei Babinet补偿器。
4.根据权利要求3所述的对准系统,其中,所述参考标记成像模块中包括波面旋转装置,使得波面旋转180°。
5.根据权利要求4所述的对准系统,其中,所述波面旋转装置为透镜组或转像棱镜。
6.根据权利要求5所述的对准系统,其中,所述偏振器为二向色片偏振器、基于多层涂层的正则偏振分光器、双折射分光器或线栅偏振器。
7.根据权利要求6所述的对准系统,其中,所述照明光束不要求严格的空间相干性。
8.根据权利要求7所述的对准系统,其中,所述参考标记的结构与所述对准标记的结构具备相同的空间周期,或者二者的结构具备满足拍频关系的周期。
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