[发明专利]发光芯片及发光芯片的制造方法有效

专利信息
申请号: 201210044874.8 申请日: 2012-02-24
公开(公告)号: CN103178200A 公开(公告)日: 2013-06-26
发明(设计)人: 翁瑞坪;胡鸿烈;许镇鹏;蔡曜骏 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: H01L33/64 分类号: H01L33/64;H01L33/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开一种发光芯片及其制造方法。发光芯片包括一外延半导体结构、一导热层、一第一电极以及一第二电极。外延半导体结构具有一第一表面、与第一表面相对的一第二表面以及一侧表面。导热层位于外延半导体结构的第一表面之侧,其中导热层的热传导系数大于200W/mk。第一电极位于导热层远离外延半导体结构的一侧。第二电极位于外延半导体结构的第二表面以与第一电极相对。
搜索关键词: 发光 芯片 制造 方法
【主权项】:
一种发光芯片,包括:外延半导体结构,具有第一表面、与该第一表面相对的第二表面以及侧表面;导热层,位于该外延半导体结构的该第一表面之侧,其热传导系数大于200W/mk;以及第一电极,位于该导热层远离该外延半导体结构的一侧;以及第二电极,位于该外延半导体结构的该第二表面之侧以与该第一电极相对。
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