[发明专利]适用于化学机械抛光的浆料及方法无效
| 申请号： | 201210037449.6 | 申请日： | 2007-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN102618172A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 崔容寿;崔在建;金奎显 | 申请（专利权）人： | 海力士半导体有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;B24B37/04;H01L21/3105;H01L21/321;H01L21/768 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种化学机械抛光的浆料，其包含分散于去离子水中的研磨料，以及有机粘度改进剂，所添加的粘度改进剂用于将浆料的粘度调整至0.5～3.2cps的范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 适用于 化学 机械抛光 浆料 方法 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光的浆料，其包括：浆料，其含有分散在去离子水中的研磨料；以及有机粘度改进剂，所添加的粘度改进剂用于将浆料的粘度调整至0.5～3.2cps的范围内。
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