[发明专利]阴影掩膜及其补偿设计方法

摘要

本发明提供一种阴影掩膜及其补偿设计方法，该方法包括：提供一第一阴影掩膜具有一第一开口图案以及一第一实体图案；将第一阴影掩膜设置于一基板上，基板的一预定镀膜区具有一第一侧与一第二侧；以第一阴影掩膜为遮罩进行一沉积工艺，以于基板的一实际镀膜区上形成一镀膜，实际镀膜区具有一第三侧与一第四侧，第一侧与第三侧的距离差为一第一偏差，第二侧与第四侧的距离差为一第二偏差，实际镀膜区相对于预定镀膜区的一单侧扩散距离为第一偏差与第二偏差之和的二分之一；以及依照单侧扩散距离设计一第二阴影掩膜。本发明的镀膜可不受薄膜扩散特性的影响，进而具有较佳的图案解析度与较低的线宽变异。

主权项

一种阴影掩膜的补偿设计方法，其特征在于，所述的方法包括：设置一第一阴影掩膜于一基板上，该第一阴影掩膜具有一第一实体图案以及与该第一实体图案互补的一第一开口图案，该第一实体图案遮蔽该基板的一第一预定镀膜开口区，该第一预定镀膜开口区具有在一轴上相对的一第一侧与一第二侧；以该第一阴影掩膜为遮罩进行一沉积工艺，以于该基板上形成一镀膜，该镀膜具有一位于该第一实体图案下方的第一开口，其中该第一开口具有在该轴上相对的一第三侧与一第四侧，该第一侧与该第三侧相邻，该第二侧与该第四侧相邻，其中该第三侧相对于该第一侧的距离差为一第一偏差，该第二侧相对于该第四侧的距离差为一第二偏差，该第一开口相对于该第一预定镀膜开口区的一第一单侧扩散距离为该第一偏差与该第二偏差之和的二分之一；以及依照该第一单侧扩散距离设计一相似但不同于该第一阴影掩膜的第二阴影掩膜，该第二阴影掩膜具有一第二实体图案以及与该第二实体图案互补的一第二开口图案，其中该第二开口图案的大小不同于该第一开口图案。