[发明专利]阴影掩膜及其补偿设计方法

权利要求书

1.一种阴影掩膜的补偿设计方法，其特征在于，所述的方法包括：

设置一第一阴影掩膜于一基板上，该第一阴影掩膜具有一第一实体图案以及与该第一实体图案互补的一第一开口图案，该第一实体图案遮蔽该基板的一第一预定镀膜开口区，该第一预定镀膜开口区具有在一轴上相对的一第一侧与一第二侧；

以该第一阴影掩膜为遮罩进行一沉积工艺，以于该基板上形成一镀膜，该镀膜具有一位于该第一实体图案下方的第一开口，其中该第一开口具有在该轴上相对的一第三侧与一第四侧，该第一侧与该第三侧相邻，该第二侧与该第四侧相邻，

其中该第三侧相对于该第一侧的距离差为一第一偏差，该第二侧相对于该第四侧的距离差为一第二偏差，该第一开口相对于该第一预定镀膜开口区的一第一单侧扩散距离为该第一偏差与该第二偏差之和的二分之一；以及

依照该第一单侧扩散距离设计一相似但不同于该第一阴影掩膜的第二阴影掩膜，该第二阴影掩膜具有一第二实体图案以及与该第二实体图案互补的一第二开口图案，其中该第二开口图案的大小不同于该第一开口图案。

2.如权利要求1所述的阴影掩膜的补偿设计方法，其特征在于，该第二开口图案相对于该第一开口图案内缩该第一单侧扩散距离。

3.如权利要求1所述的阴影掩膜的补偿设计方法，其特征在于，该第二开口图案的形状不同于该第一开口图案的形状。

4.如权利要求1所述的阴影掩膜的补偿设计方法，其特征在于，该第一开口相对于该第一预定镀膜开口区的一第一镀膜偏移距离为该第一偏差与该第二偏差之差的二分之一，其中该第一阴影掩膜的该第一实体图案更包含位于一侧的一第一边缘图案，该第一边缘图案遮蔽该基板的一第二预定镀膜开口区，该第二预定镀膜开口区具有在该轴上邻近第一预定镀膜开口区的一第五侧，

该镀膜更具有位于该第一边缘图案下方的一第二开口，其中该第二开口具有在该轴上邻近该第五侧的一第六侧，

其中该第五侧相对于该第六侧的距离差为一第三偏差，该第二开口相对于该第二预定镀膜开口区的一第二单侧扩散距离为该第三偏差与该第一镀膜偏移距离的和，

该第二阴影掩膜的该第二实体图案更包括一第三边缘图案，该第二开口图案与该第二实体图案相邻的部分相对于该第一开口图案内缩该第一单侧扩散距离，该第二开口图案与该第二边缘图案相邻的部分相对于该第一开口图案内缩该第二单侧扩散距离。

5.如权利要求4所述的阴影掩膜的补偿设计方法，其特征在于，该第一阴影掩膜的该第一实体图案更包含位于另一侧的一第三边缘图案，该第三边缘图案遮蔽该基板的一第三预定镀膜开口区，该第三预定镀膜开口区具有在该轴上邻近第一预定镀膜开口区的一第七侧，

该镀膜更具有位于该第三边缘图案下方的一第三开口，其中该第三开口具有在该轴上邻近该第七侧的一第八侧，

其中该第八侧相对于该第七侧的距离差为一第四偏差，该第三开口相对于该第三预定镀膜开口区的一第三单侧扩散距离为该第四偏差与该第一镀膜偏移距离的差，

该第二阴影掩膜的该第二实体图案更包括一第四边缘图案，该第二开口图案与该第四边缘图案相邻的部分相对于该第一开口图案内缩该第三单侧扩散距离。

6.一种阴影掩膜，其特征在于，所述的阴影掩膜包括：一实体图案以及一与该实体图案互补的开口图案，其中该实体图案包括呈阵列排列的多个图案单元，所述图案单元至少包括一第一图案单元与一第二图案单元，该第一图案单元具有一第一基本图案以及一自该第一基本图案的边缘沿一轴朝向该开口图案延伸的第一补偿图案，该第二图案单元具有一第二基本图案以及一自该第二基本图案的边缘沿该轴朝向该开口图案延伸的第二补偿图案，其中该第一基本图案与该第二基本图案的形状与大小皆相同，该第一补偿图案的延伸距离不等于该第二补偿图案的延伸距离。

7.如权利要求6所述的阴影掩膜，其特征在于，所述图案单元更包括一第三图案单元，该第三图案单元具有一第三基本图案以及一自该第三基本图案的边缘沿该轴朝向该开口图案延伸的第三补偿图案，该第一基本图案、该第二基本图案与该第三基本图案的形状与大小皆相同，该第三基本图案与该第二基本图案相连，该第一补偿图案的延伸距离、该第二补偿图案的延伸距离、与该第三补偿图案的延伸距离皆不相等。