[发明专利]一种回旋流非接触气爪夹持装置

摘要

本发明公开了一种回旋流非接触气爪夹持装置，包括制有主进气腔的安装座体和气爪主体；气爪主体分别制有构成气爪外围层的第一回旋流腔和构成气爪内围层的第二回旋流腔，气爪主体内制有与每个第一回旋流腔和每个第二回旋流腔相切连通的导气通道，并且两相邻的第一回旋流腔以及两相邻的第二回旋流腔的进气方向相反，气爪主体制有径向连通外界的下凹排气区，下凹排气区制有排气通道，气爪主体下端面与每个第一回旋流腔同轴对应制有负压吸引通道，第一回旋流腔与负压吸引通道间留有排气间隙，第二回旋流腔贯通气爪主体的下端面，安装座体底部圆平面制有连通第一导气通道与主进气腔的第一导气孔和连通第二导气通道与主进气腔的第二导气孔。

主权项

一种回旋流非接触气爪夹持装置，包括整体结构为圆柱体的装置本体，其特征是：所述的装置本体包括制有主进气腔(1a)的安装座体(1)和与安装座体(1)底部圆平面(11)固定连接的气爪主体(2)；所述气爪主体(2)的上部和下部等弧度等数量分别均布制有构成气爪外围层的第一回旋流腔(21a)和构成气爪内围层的第二回旋流腔(23a)，气爪主体(2)内部分别制有能与每个第一回旋流腔(21a)和每个第二回旋流腔(23a)相切连通的第一导气通道和第二导气通道，并且两相邻的第一回旋流腔(21a)以及两相邻的第二回旋流腔(23a)的进气方向均相反，所述气爪主体(2)内中部制有径向连通外界的下凹排气区，下凹排气区沿气爪主体(2)的轴心向下贯通制有排气通道，气爪主体(2)下端面与每个第一回旋流腔(21a)同轴对应制有轴向延伸至中部构成气爪外围环形负压真空吸引区域的负压吸引通道，第一回旋流腔(21a)与负压吸引通道的对应连接间留有连通下凹排气区的排气间隙，所述第二回旋流腔(23a)贯通气爪主体(2)的下端面构成气爪内围环形正压排斥区，所述安装座体(1)底部圆平面(11)分别制有连通第一导气通道与主进气腔(1a)的第一导气孔(1b)和连通第二导气通道与主进气腔(1a)的第二导气孔(1c)。