[发明专利]电铸掩模板定位点的制作方法有效
申请号: | 201210010776.2 | 申请日: | 2012-01-16 |
公开(公告)号: | CN103203975A | 公开(公告)日: | 2013-07-17 |
发明(设计)人: | 魏志凌;高小平;赵录军 | 申请(专利权)人: | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
主分类号: | B41C1/14 | 分类号: | B41C1/14 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种电铸掩模板定位点的制作方法,包括蚀刻工艺阶段和电铸工艺阶段,其特征在于,所述电铸工艺阶段包括:芯模前处理、贴膜、曝光、显影和电铸;所述蚀刻工艺阶段包括:贴膜、曝光、蚀刻、脱膜、水洗、烘干、涂黑胶、剥离。本发明提供的一种电铸掩模板定位点的制作方法,能够制作高位置精度的定位,能够制作高对比度的定位,提高定位的识别度,制作的定位耐磨,不易被清洗掉,能够解决定位黑度不够的问题,节省制作生产时间,降低成本,具有广阔的市场前景。 | ||
搜索关键词: | 电铸 模板 定位 制作方法 | ||
【主权项】:
一种电铸掩模板定位点的制作方法,包括电铸工艺阶段和蚀刻工艺阶段,其特征在于,所述电铸工艺阶段包括:芯模前处理、贴膜、曝光、显影和电铸;所述蚀刻工艺阶段包括:贴膜、曝光、蚀刻、脱膜、水洗、烘干、涂黑胶、剥离。
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