[发明专利]一种对晶片中心进行定位的光学对中系统及其对中方法无效

专利信息
申请号: 201210001264.X 申请日: 2012-01-04
公开(公告)号: CN103199045A 公开(公告)日: 2013-07-10
发明(设计)人: 刘正伟 申请(专利权)人: 沈阳芯源微电子设备有限公司
主分类号: H01L21/68 分类号: H01L21/68
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 白振宇
地址: 110168 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明属于半导体晶片加工过程中晶片精确定位领域,具体地说是一种对晶片中心进行定位的光学对中系统及其对中方法,对中系统中X轴移动伺服控制系统安装在底板上,Y轴移动伺服控制系统设置在X轴移动伺服控制系统上;晶片通过真空吸盘安装在Y轴移动伺服控制系统上,具有沿X轴和Y轴的轴向往复移动的自由度;对射式激光传感器安装在底板上、位于所述晶片的上方;方法为通过对射式激光传感器实现对晶片中心的精确定位,通过对射式激光传感器的扫描可以准确的确定晶片的中心位置,通过X、Y轴移动伺服控制系统控制晶片运动,使晶片的实际中心与理论中心重合。本发明对中系统结构简单可靠,控制精度高,运动平稳;方法易操作,计算准确。
搜索关键词: 一种 晶片 中心 进行 定位 光学 系统 及其 方法
【主权项】:
一种对晶片中心进行定位的光学对中系统,其特征在于:包括对射式激光传感器(1)、真空吸盘(3)、Y轴移动伺服控制系统(4)、X轴移动伺服控制系统(5)及底板(6),其中X轴移动伺服控制系统(5)安装在底板(6)上,Y轴移动伺服控制系统(4)设置在X轴移动伺服控制系统(5)上;需对中的晶片(2)通过真空吸盘(3)安装在Y轴移动伺服控制系统(4)上,具有沿X轴和Y轴的轴向往复移动的自由度;所述对射式激光传感器(1)安装在底板(6)上、位于所述晶片(2)的上方。
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