[发明专利]一种对晶片中心进行定位的光学对中系统及其对中方法无效

专利信息
申请号: 201210001264.X 申请日: 2012-01-04
公开(公告)号: CN103199045A 公开(公告)日: 2013-07-10
发明(设计)人: 刘正伟 申请(专利权)人: 沈阳芯源微电子设备有限公司
主分类号: H01L21/68 分类号: H01L21/68
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 白振宇
地址: 110168 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 晶片 中心 进行 定位 光学 系统 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种对晶片中心进行定位的光学对中系统,其特征在于:包括对射式激光传感器(1)、真空吸盘(3)、Y轴移动伺服控制系统(4)、X轴移动伺服控制系统(5)及底板(6),其中X轴移动伺服控制系统(5)安装在底板(6)上,Y轴移动伺服控制系统(4)设置在X轴移动伺服控制系统(5)上;需对中的晶片(2)通过真空吸盘(3)安装在Y轴移动伺服控制系统(4)上,具有沿X轴和Y轴的轴向往复移动的自由度;所述对射式激光传感器(1)安装在底板(6)上、位于所述晶片(2)的上方。

2.按权利要求1所述对晶片中心进行定位的光学对中系统,其特征在于:所述Y轴移动伺服控制系统(4)通过X轴移动伺服控制系统(5)的驱动沿X轴的轴向往复移动,所述真空吸盘(3)设置在Y轴移动伺服控制系统(4),需对中的晶片(2)安装在该真空吸盘(3)上、与真空吸盘(3)一起通过Y轴移动伺服控制系统(4)的驱动沿Y轴的轴向往复移动,并且随Y轴移动伺服控制系统(4)一起沿X轴的轴向往复移动。

3.按权利要求1所述对晶片中心进行定位的光学对中系统,其特征在于:所述对射式激光传感器(1)通过支架安装在底板(6)上。

4.一种按权利要求1、2或3所述对晶片中心进行定位的光学对中系统的对中方法,其特征在于:先通过标准晶片来确定晶片半径、对射式激光传感器(1)在X轴Y轴坐标系中的位置以及晶片(2)的运动速度,移动晶片(2),通过对射式激光传感器(1)对晶片(2)的两次响应时间和晶片(2)的运动速度,得出对射式激光传感器(1)扫描的弦长,然后计算出晶片(2)的实际中心与理论中心在X轴和Y轴方向的偏心值,在Y轴移动伺服控制系统(4)及X轴移动伺服控制系统(5)的驱动下,使晶片(2)的实际中心与理论中心重合。

5.按权利要求4所述的对中方法,其特征在于:所述对射式激光传感器(1)在X轴Y轴坐标系中的坐标为(X0、Y0),晶片(2)的实际中心为O,理论中心为O0,晶片(2)的半径为R;所述晶片(2)先沿Y轴方向移动,对射式激光传感器(1)从Y1点开始响应,到Y2点结束;通过对射式激光传感器(1)的响应时间及晶片(2)的运动速度,得出晶片(2)的弦长|Y1-Y2|,弦长的一半晶片(2)实际中心O与所述弦之间的距离因此晶片(2)实际中心O与理论中心O0在X轴方向的偏心值晶片(2)实际中心O与理论中心O0在Y轴方向的偏心值然后Y轴移动伺服控制系统(4)及X轴移动伺服控制系统(5)分别驱动晶片(2),使实际中心O与理论中心O0重合。

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