[发明专利]用于非接触测量表面的方法和设备有效

专利信息
申请号: 201180071004.3 申请日: 2011-05-20
公开(公告)号: CN103547883B 公开(公告)日: 2017-06-13
发明(设计)人: F·拉古尔塔·伯特兰;A·皮恩托·维拉;R·阿蒂加斯·珀萨尔斯;C·卡德瓦尔·阿蒂古埃斯 申请(专利权)人: 加泰罗尼亚理工大学
主分类号: G01B11/25 分类号: G01B11/25;G02B21/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 宋海宁
地址: 西班牙*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开涉及用于非接触测量表面的方法和设备。缝隙(m)被投射到物体表面上,其中基准点(X1)在水平轴线(x)中最接近焦点位置中的最佳位置(P)。在反射了包含所述基准点(X1)的光之后,视场区域(F)的一个图像被获取。物体(300)在竖直轴线(z)中的位置(Z1)被确定。在反射了具有基准点(X2,X3…Xn)的光之后,通过同时沿轴线(z)移动物体(300)以维持基准点(X2,X3…Xn)最接近焦点位置中的最佳位置(P),相应视场区域(F)的图像被获取。确定获取图像的位置(Z2,Z3…Zn)。对于每个图像确定沿水平轴线(x)的焦点位置中的最佳位置(P)。在焦点位置中的最佳位置(P)和基准点(X1,X2..Xn)之间的校正差分(Δ1,Δ2...Δn)被计算。
搜索关键词: 用于 接触 测量 表面 方法 设备
【主权项】:
一种用于非接触测量物体(300)表面的方法,所述方法包括以下步骤:将光投射到物体表面的目标区域上,其中在所述物体表面的至少第一轴线(x)中存在基准点(X1),使得所述基准点(X1)是最接近焦点对准点(P)的点;在由包含所述基准点(X1)的物体表面反射投射的光之后,获取视场区域(F)的一个图像;确定所述物体(300)在第二轴线(z)中的位置(Z1);将光投射到物体表面上的相继目标区域上,其中所述第一轴线(x)中存在所述物体表面的其它基准点(X2,X3...Xn);在由包含所述其它基准点(X2,X3...Xn)的物体表面反射投射的光之后,通过同时改变所述物体(300)沿第一轴线(x)和第二轴线(z)的位置以便在所述视场区域(F)内维持其它基准点(X2,X3...Xn)尽可能接近焦点对准点(P),来获取相应的视场区域(F)的多个图像;以及对于存在其它基准点(X2,X3...Xn)的对应目标区域,确定所述物体(300)的位置(Z2,Z3...Zn);其特征在于所述将光投射到物体表面的目标区域上的步骤通过投射具有沿至少所述第一轴线(x)的光分布的光的图案而实施;并且其中所述方法进一步包括以下步骤:对于每个获取的图像确定沿第一轴线(x)的焦点对准点(P)的位置;计算对应校正差分(Δ1,Δ2...Δn),作为沿第一轴线(x)在所述焦点对准点(P)与基准点和其它基准点(X1,X2...Xn)之间的距离;以及获得物体表面的表示,所述表示至少涉及关于所述第一轴线(x)中的所述基准点和其它基准点(X1,X2...Xn)以及所述校正差分(Δ1,Δ2...Δn)和所述物体在所述第二轴线(z)中的位置(Z1,Z2...Zn)的参数。
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