[发明专利]卤化茚酮类及使用其的光学活性茚满酮类或光学活性茚满醇类的制造方法有效
| 申请号： | 201180054054.0 | 申请日： | 2011-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN103209949A | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 山本升平;西八条正克;田中理绘;川野茂;藤井章雄 | 申请（专利权）人： | 株式会社钟化 |
| 主分类号： | C07C45/62 | 分类号： | C07C45/62;C07C29/143;C07C35/52;C07C49/697;C07D241/04;C12P7/26;C07B53/00;C07B61/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张永新 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
下述式（2）：（式中，Ar1表示呋喃基、噻吩基或碳原子数6～20的芳基。X1表示卤素原子。*表示不对称点）所示的光学活性酮通过立体选择性地还原下述式（1）：（式中，Ar1、X1与上述相同）所示的烯酮化合物来制造。 |
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| 搜索关键词： | 卤化 酮类 使用 光学 活性 茚满醇类 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.下述式(2)所示的光学活性酮的制造方法，该方法包括：立体选择性地还原下述式(1)所示的烯酮化合物，![]()
式(1)中，Ar1表示呋喃基、噻吩基或碳原子数为6～20的芳基，X1表示卤素原子，![]()
式(2)中，Ar1、X1与上述相同，*表示不对称点。
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