[发明专利]光学薄膜层叠体的制造方法和制造系统、以及光学薄膜层叠体无效

专利信息
申请号: 201180052034.X 申请日: 2011-11-15
公开(公告)号: CN103189785A 公开(公告)日: 2013-07-03
发明(设计)人: 平田聪;近藤诚司;宫武稔;中园拓矢;秦和也 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;B32B37/16;G02B5/30
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种粘合层不会暴露出到外部的光学薄膜层叠体。在光学薄膜层叠体的制造方法中,层叠在第1薄膜(31)上的第2薄膜(32)和第3薄膜(33)的宽度均小于第1薄膜(31)的宽度,并且,使第2薄膜(32)和第3薄膜(33)均以在宽度方向上不超出第1薄膜(31)的方式依次层叠在第1薄膜(31)上。由此,光学薄膜层叠体(30)的粘合层(32A、33A)不会暴露出到外部。
搜索关键词: 光学薄膜 层叠 制造 方法 系统 以及
【主权项】:
一种光学薄膜层叠体的制造方法,其是将均在一侧表面形成有粘合层的其他薄膜借助上述粘合层依次层叠在第1薄膜上来制造由多张薄膜构成的光学薄膜层叠体的方法,其特征在于,该光学薄膜层叠体的制造方法包括:抽出工序,其中,从多个材料卷分别将上述多张薄膜沿着其长度方向抽出,该多个材料卷是将借助粘合层层叠有载膜的长条状的上述多张薄膜卷绕而形成的;剥离工序,其中,将上述载膜自上述其他薄膜剥离;以及层叠工序,借助分别形成于上述其他薄膜的剥离下了上述载膜的一侧表面的上述粘合层将上述其他薄膜依次层叠在上述第1薄膜上,从而形成光学薄膜层叠体;在上述层叠工序中,上述其他薄膜均以在宽度方向上不超出上述第1薄膜的方式依次层叠在上述第1薄膜上。
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