[发明专利]光电转换元件无效
申请号: | 201180051703.1 | 申请日: | 2011-11-01 |
公开(公告)号: | CN103201846A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 小林宏之;福永敏明;村上直树 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | H01L31/04 | 分类号: | H01L31/04 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 臧建明 |
地址: | 日本东京港区*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | [问题]一种光电转换元件,包括光电转换层,且使密着性提高,所述光电转换层藉由蒸镀法而形成于包含过渡金属的导电层上。[解决方案]光电转换元件(1)于基板(10)上具有包含过渡金属元素的导电层(20)、包含化合物半导体的光电转换层(30)、以及透明电极(60)的积层构造,所述化合物半导体含有Ib族元素、IIIb族元素及VIb族元素,光电转换元件(1)采用如下的构成,即,于导电层(20)与光电转换层(30)之间包括过渡金属二硫属化物薄膜(25),该过渡金属二硫属化物薄膜(25)包含过渡金属元素与VIb族元素。构成所述过渡金属二硫属化物薄膜(25)的多个微结晶(25a)中,c轴为大致垂直地形成于导电层(20)的表面的微结晶于形成有薄膜的导电层(20)的表面所占的比例设为80%以下。 | ||
搜索关键词: | 光电 转换 元件 | ||
【主权项】:
一种光电转换元件,于基板上具有包含过渡金属元素的导电层、包含化合物半导体的光电转换层以及透明电极的积层构造,所述化合物半导体含有Ib族元素、IIIb族元素及VIb族元素,其特征在于:于所述导电层与所述光电转换层之间包括过渡金属二硫属化物薄膜,所述过渡金属二硫属化物薄膜包含所述过渡金属元素与所述VIb族元素,所述过渡金属二硫属化物薄膜包含多个微结晶,所述多个微结晶中,c轴为大致垂直地形成于所述导电层的表面的微结晶于形成有所述薄膜的导电层的表面所占的比例为80%以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201180051703.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于从热产生电力的装置、系统及方法
- 下一篇:煤矿斜井提升用鸡心环
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的