[发明专利]适于生产硅的机械流化的反应器系统和方法有效
申请号: | 201180048337.4 | 申请日: | 2011-09-28 |
公开(公告)号: | CN103154314A | 公开(公告)日: | 2013-06-12 |
发明(设计)人: | 马克·W·达瑟尔 | 申请(专利权)人: | 马克·W·达瑟尔 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/448;C23C16/52;H01L21/205 |
代理公司: | 北京鸿德海业知识产权代理事务所(普通合伙) 11412 | 代理人: | 袁媛 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种机械流化系统和方法,允许高效、低成本地生产硅。将颗粒提供至加热的托盘或盘,所述盘或托盘振荡或振动以提供反应表面。所述颗粒在托盘或盘中向下迁移并且托盘或盘中的反应产品在其达到期望的状态时向上迁移。废气可以循环利用。 | ||
搜索关键词: | 适于 生产 机械 流化 反应器 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种化学气相沉积反应器系统,包括:机械装置,用于基本上将多个粉尘、球珠或其他颗粒的表面暴露于包括第一气体化学物料的气体;用于加热的装置,用于将所述粉尘、球珠或其他颗粒或者所述粉尘、球珠或其他颗粒的表面加热至足够高的温度,从而使与所述表面接触的第一气体化学物料将化学分解并且基本上在所述表面上沉积第二化学物料;以及第一气体源,其从在加热时分解成一个或多个第二化学物料的化学物料中选择,所述第二化学物料之一是基本上非挥发性物料并且易于近距离地沉积在热表面上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的