[发明专利]直接或间接涂覆液状或糊状涂覆介质的设备的运行方法和该设备无效

专利信息
申请号: 201180047395.5 申请日: 2011-09-06
公开(公告)号: CN103140628A 公开(公告)日: 2013-06-05
发明(设计)人: C.亨宁格;F.费舍;笹正志 申请(专利权)人: 沃依特专利有限责任公司
主分类号: D21H23/48 分类号: D21H23/48
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 贾静环
地址: 德国海*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种用于运行设备(1)的方法和设备,该设备借助至少一个涂覆机构(2)将液状或糊状涂覆介质以自由下垂的幕帘(3)的形式直接或间接涂覆到能运动的料幅,尤其是纤维幅(F)上,该设备带有配属于涂覆机构(2)的涂覆介质供应系统(6),涂覆介质供应系统(6)包括至少一个与涂覆机构(2)在流动技术上连通的涂覆介质准备单元(7)和脱气装置(8)。本发明的特征在于,在脱气装置(8)区域中的流动技术连接装置(12)内的涂覆介质的温度(T3,)低于在涂覆机构(2)区域中的温度(T4),其中,在脱气装置(8)区域中的温度(T3)处在包括端点的5℃至35℃的范围中,优选处在包括端点的15℃至30℃的范围中,以及在涂覆机构(2)的区域中的温度(T4)则处在包括端点的25℃至45℃的范围中,优选处在包括端点的30℃至40℃的范围中。
搜索关键词: 直接 间接 液状 糊状 介质 设备 运行 方法
【主权项】:
一种用于运行设备(1)的方法,该设备(1)借助至少一个涂覆机构(2)将液状或糊状涂覆介质以自由下垂的幕帘(3)的形式直接或间接涂覆到能运动的料幅,尤其是纤维幅(F)上,并且该设备(1)具有配属于涂覆机构(2)的涂覆介质供应系统(6),该涂覆介质供应系统(6)包括至少一个与涂覆机构(2)在流动技术上连通的涂覆介质准备单元(7)和脱气装置(8);其特征在于,这样运行这个设备,使得在脱气装置(8)区域中的流动技术连接装置(12)内的涂覆介质的温度(T3,)要低于在涂覆机构(2)区域中的温度(T4),其中,在脱气装置(8)区域中的温度(T3)处在包括端点的5℃至35℃的范围中,优选处在包括端点的15℃至30℃的范围中,以及在涂覆机构(2)的区域中的温度(T4)则处在包括端点的25℃至45℃的范围中,优选处在包括端点的30℃至40℃的范围中。
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