[发明专利]具有再循环加热和真空排放功能的剂量系统有效
申请号: | 201180043246.1 | 申请日: | 2011-07-20 |
公开(公告)号: | CN103097679A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | R·U·伊萨达;李永祥 | 申请(专利权)人: | 卡特彼勒公司 |
主分类号: | F01N3/10 | 分类号: | F01N3/10;F01N3/28;F01N3/20;B01D53/94 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 苏娟;朱利晓 |
地址: | 美国伊*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 公开一种还原剂剂量系统(10)。该还原剂剂量系统可具有还原剂的供应装置(16)、还原剂喷嘴(20)和具有入口(28)和出口(30)的泵(18)。还原剂剂量系统还可具有将供应装置连接到泵的入口的第一通道(32)和布置在第一通道中的第一控制阀(40)。还原剂剂量系统可进一步具有将泵的出口连接到还原剂喷嘴的第二通道(34)和布置在第二通道中的第二控制阀(42)。还原剂剂量系统可另外具有在第一控制阀下游的位置处将第二控制阀连接到第一通道的第三通道(48)以及将第二控制阀连接到供应装置的第四通道(50)。 | ||
搜索关键词: | 具有 再循环 热和 真空 排放 功能 剂量 系统 | ||
【主权项】:
一种还原剂剂量系统(10),包括:还原剂的供应装置(16);还原剂喷嘴(20);具有入口(28)和出口(30)的泵(18);第一通道(32),其将所述供应装置连接到所述泵的入口;第一控制阀(40),其布置在所述第一通道中;第二通道(34),其将所述泵的出口连接到所述还原剂喷嘴;第二控制阀(42),其布置在所述第二通道中;第三通道(48),其在所述第一控制阀下游的位置处将所述第二控制阀连接到第一通道;以及第四通道(50),其将所述第二控制阀连接到所述供应装置。
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