[发明专利]强磁性材料溅射靶有效
| 申请号： | 201180037308.8 | 申请日： | 2011-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN103038388A | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | 佐藤敦;高见英生 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C32/00;G11B5/851;H01F10/16;H01F41/18 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种强磁性材料溅射靶，其为包含以Co作为主要成分的金属和非金属无机材料粒子的烧结体溅射靶，其特征在于，存在饱和磁化强度不同的多个金属相，并且在各个金属相中分散有非金属无机材料粒子。本发明的课题在于，通过增大溅射靶的漏磁通，可以得到能够得到稳定的放电，并且在磁控溅射装置中，可以得到稳定的放电，并且溅射时的粉粒产生少的强磁性材料溅射靶，磁记录介质的磁性体薄膜、特别是采用垂直磁记录方式的硬盘的磁记录层的成膜中使用的强磁性材料溅射靶。 | ||
| 搜索关键词： | 磁性材料 溅射 | ||
【主权项】：
一种强磁性材料溅射靶，其为包含以Co作为主要成分的金属和非金属无机材料粒子的烧结体溅射靶，其特征在于，存在饱和磁化强度不同的多个金属相，并且在各个金属相中分散有非金属无机材料粒子。
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