[发明专利]环境稳定化方法及激光处理装置

摘要

本发明提供环境稳定化方法及激光处理装置，在将基板搬入到激光处理装置后，当使基板旋转90°时，防止旋转途中的气体环境紊乱。以使气体喷射口位于基板的第1边的中央部附近的方式搬入基板，接着以基板的中心接近气体喷射口的方式使基板直线移动，接着以基板的中心作为旋转轴使基板水平旋转90°。由于在旋转途中气体喷射口的端部不会在密封盖之外，所以可以防止气体的泄漏而使气体环境紊乱。

主权项

一种环境稳定化方法，其特征在于，用在激光处理装置(100)中，所述激光处理装置(100)包括：基板支撑单元(2、11、12、13、14)，具有基板支撑面用来支撑具有第1边(p1)至第4边(p4)的四边形的基板(P)，而且可以使所述基板支撑面在平行于所述基板支撑面的2维方向直线移动，而且可以使所述基板支撑面以垂直于所述基板支撑面的轴为中心进行旋转；四边形的密封盖(8)，以端缘部突出到被所述基板支撑面所支撑的基板(P)的周围的方式，被设置在所述基板(P)和所述基板支撑面之间；激光源(4)，用来使线状的激光(5)照射于所述基板(P)；和狭缝状的气体喷射口(6)，朝向所述基板(P)喷出气体，用来使被激光(5)照射的局部成为气体环境；在所述激光处理装置(100)中，以使所述气体喷射口(6)位于所述第1边(p1)的中央部附近的方式支撑基板(P)，接着以使所述基板(P)的中心接近所述气体喷射口(6)的方式使所述基板(P)直线移动，接着使所述基板(P)进行旋转。