[实用新型]一种生长石墨烯的支架、支架组件和石墨烯薄膜生长组件有效
| 申请号： | 201120551369.3 | 申请日： | 2011-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN202492574U | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 彭鹏;金虎 | 申请（专利权）人： | 彭鹏 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C23C16/24;C30B25/12;C30B29/02 |
| 代理公司： | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人： | 钟守期;王媛 |
| 地址： | 湖南省邵阳市宝庆*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种用于石墨烯薄膜生长的支架，所述支架具有以预定间隔卷绕的卷绕结构，所述卷绕结构具有内表面(S1)和与之相对的外表面(S2)、内边缘(E1)和外边缘(E2)，并围绕内边缘(E1)卷绕一周以上以形成一层以上的结构，所述卷绕结构整体呈圆柱形；还提供包括所述支架和底托的支架组件，以及包括所述支架、底托和炉管的石墨烯薄膜生长组件。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 生长 石墨 支架 组件 薄膜 | ||
【主权项】：
一个用于石墨烯薄膜生长的支架，所述支架具有以预定间隔卷绕的卷绕结构，所述卷绕结构具有内表面(S1)和与之相对的外表面(S2)、内边缘(E1)和外边缘(E2)，并围绕内边缘(E1)卷绕一周以上以形成一层以上的结构，所述卷绕结构整体呈圆柱形。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
