[实用新型]离子注入电弧反应室有效
| 申请号： | 201120468276.4 | 申请日： | 2011-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN202332780U | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 许鹖 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/16 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种离子注入电弧反应室，该种离子注入电弧反应室包括底座和置于底座上的上盖，所述上盖和底座的内表面上均匀分布有多个突起，所述突起表面呈波纹状，所述突起的高度为1mm-2mm，所述电弧反应室表面由钨材料制成。本实用新型在离子注入电弧反应室的上盖和底座内表面上设突起，突起表面呈波纹状，这种结构使得离子注入时附着物首先聚集在突起表面波谷的位置，再是波峰的位置，附着物不容易脱落，从而使得新更换的电弧反应室在使用的时候，附着物不易脱落，减少电弧反应室的短路，以及延长电弧反应室的维护周期。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 电弧 反应 | ||
【主权项】：
一种离子注入电弧反应室，包括底座和置于底座上的上盖，其特征在于：所述上盖和底座的内表面均匀分布有多个突起，所述突起表面呈波纹状。
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