[实用新型]一种扩散速率可控的培养配合物单晶的装置有效

专利信息
申请号: 201120447382.4 申请日: 2011-10-29
公开(公告)号: CN202499927U 公开(公告)日: 2012-10-24
发明(设计)人: 武文;谢东坡;宣亚文 申请(专利权)人: 周口师范学院
主分类号: C30B7/02 分类号: C30B7/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 466000 河南省周*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 实用新型公开了一种扩散速率可控的培养配合物单晶的装置,属于单晶生长领域。要想培养出结构比较完美的单晶,就要有效地控制配合物的结晶速率,本装置旨在解决这一问题。本装置包括一个恒温装置,一个带密封盖的圆柱形磨口玻璃容器,三个多孔圆盘,最上面的多孔圆盘厚度较大,多孔内填有弹性材料,固定试管,上面两个圆盘通过中心轴固定。本实用新型装置上面的两个多孔圆盘和最下面的多孔圆盘相对转动,能有效地控制有机溶剂的挥发速率,从而调节单晶生长的快慢,当两个圆盘的小孔完全重合或不重合时,有机溶剂挥发最快或最慢,如果还不能满足实验要求,就通过试管插入的数量,或者采用温控装置调节温度,满足实验条件。
搜索关键词: 一种 扩散 速率 可控 培养 配合 物单晶 装置
【主权项】:
一种扩散速率可控的培养配合物单晶的装置。包括一个恒温装置,一个带密封盖的圆柱形磨口玻璃容器,三个多孔圆盘,多孔圆盘3厚度较大,多孔内填有弹性材料8,固定试管,多孔圆盘3、4通过中心轴固定,并和圆盘5相对转动,能有效地控制有机溶剂的挥发速率,从而调节单晶生长的快慢。
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  • 本实用新型涉及一种直浸式配合物晶体合成实验研究用恒温培育装置,属于单晶生长领域。配合物小晶体合成条件筛查工作中普遍存在昼夜温差干扰问题,本案旨在解决这一问题。本案装置包括一个盘状水槽,在盘状水槽的侧壁上装设有进水接口以及出水接口,进水接口以及出水接口与盘状水槽内部联通,以及,带有许多孔洞的盖板,该盖板是活动的盖板,本案要点是,该装置的结构还包括环形弹性件,该环形弹性件与所述孔洞的边沿贴附地装设在一起,每一个所述孔洞对应装设一个所述环形弹性件,盘状水槽的侧壁的横断面形状呈曲柄形状,盘状水槽的边沿包绕在盖板的边沿之外。本案克服了所述问题,其应用可以为相关筛查实验提供温度受到精细控制的较理想条件。
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  • 2009-03-06 - 2009-09-16 - C30B7/02
  • 本发明涉及一种能够抑制多结晶水晶型生长的配合物晶体培育装置,属于单晶生长领域。在常温、常压配合物小晶体溶剂挥发法合成探索工作中,常会出现一些带有大量结晶水的晶体产物,这类晶体产物既不易解析又会快速风化、崩解,本案旨在抑制该类晶体的形成。本案装置包括一个其上侧面板上开设有许多的孔洞的箱形物或桶形物,以及,与各孔洞边沿贴附在一起的用于嵌置烧杯或试管的环形弹性件,以及,装设在所述箱形物或桶形物的底部位置或侧壁位置的超声波换能器,以及,带有阀门的进出水接口,进出水接口装设在所述箱形物或桶形物的侧壁位置或底部位置。本案装置利用持续不断的低功率的超声波来抑制那些含太多结晶水的结构相对松垮的晶型生长。
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  • 2009-01-16 - 2009-08-05 - C30B7/02
  • 本发明涉及一种考察超声波场对配合物小晶体生长影响的实验装置,属于单晶生长领域。在常温、常压配合物小晶体溶剂挥发法合成探索工作中,常会出现一些带有大量结晶水的晶体产物,这类晶体产物既不易解析又会快速风化、崩解,本案旨在抑制该类晶体的形成。本案装置包括一个盘状水槽,以及,带有许多孔洞的盖板,该盖板是活动的盖板,本案要点是,该装置的结构还包括环形弹性件,该环形弹性件与所述孔洞的边沿贴附地装设在一起,每一个所述孔洞对应装设一个所述环形弹性件,以及,超声波换能器,该超声波换能器贴附装设在盘状水槽的底部。本案装置利用持续不断的低功率的超声波来抑制那些含太多结晶水的结构相对松垮的晶型生长。
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  • 本发明涉及一种应用于研究磁场条件对配合物结晶干预的实验装置,属于单晶生长领域。研究磁场对配合物合成反应及结晶过程的干预、影响规律,进而由此提高相关目标晶体的探寻效率,是一个有意义的研究拓展方向。本案提供一种适于这一目的的实验装置。本案装置包括一个扁平盒状物,该扁平盒状物含有两个宽阔盒面,在其中的一个宽阔盒面上装设有许多的有底的凹形坑洞,凹形坑洞的内腔形状呈圆柱状,扁平盒状物上装设有进水接口以及出水接口,进水接口以及出水接口均与扁平盒状物内部联通,在凹形坑洞的底部位置装设有永久磁铁。本案装置适于磁场干预合成实验,应用该装置有助于了解和掌握相关干预、影响规律,有助于提高相关目标晶体的发现几率。
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