[实用新型]一种GaN基发光二极管结构有效

专利信息
申请号: 201120097188.8 申请日: 2011-04-06
公开(公告)号: CN202049992U 公开(公告)日: 2011-11-23
发明(设计)人: 吴东海;李志翔;庄曜励 申请(专利权)人: 南通同方半导体有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100083 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种GaN基发光二极管结构,涉及光电技术领域。本实用新型结构包括蓝宝石衬底和在蓝宝石衬底上依次外延生长的N型氮化镓层、有源发光层及P型氮化镓层。P型氮化镓层的上方为透明导电层,透明导电层上的一端置有P型电极,N型氮化镓层上、与P型电极相对的另一端置有N型电极。其结构特点是,所述设置N型电极的N型氮化镓层平面上、两个发光二极管芯片之间不设置切割道区域。同现有技术相比,本实用新型能有效减少有源区的刻蚀损耗,增加发光区面积,改善GaN基发光二极管的发光效率。
搜索关键词: 一种 gan 发光二极管 结构
【主权项】:
一种GaN基发光二极管结构,它包括蓝宝石衬底(21)和在蓝宝石衬底(21)上依次外延生长的N型氮化镓层(22)、有源发光层(23)及P型氮化镓层(24),P型氮化镓层(24)的上方为透明导电层(25),透明导电层(25)上的一端置有P型电极(262),N型氮化镓层(22)上、与P型电极(262)相对的另一端置有N型电极(261);其特征在于,所述设置N型电极(261)的N型氮化镓层(22)平面上、两个发光二极管芯片之间不设置切割道(00)区域。
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