[实用新型]用于镀膜工艺的喷淋头调平装置有效
申请号: | 201120070314.0 | 申请日: | 2011-03-17 |
公开(公告)号: | CN202054892U | 公开(公告)日: | 2011-11-30 |
发明(设计)人: | 田华;桂鹏 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种用于镀膜工艺的喷淋头调平装置,所述喷淋头的一侧对着晶圆,另一侧设有用于对喷淋头进行调平的三组调整机构,每个调整机构采用蜗轮蜗杆副调整机构,所述蜗轮蜗杆副调整机构包括蜗轮和蜗杆,所述蜗轮和所述蜗杆相啮合,所述蜗杆的一端与所述喷淋头固定连接,蜗轮转动时带动蜗杆边转动边上下移动。本实用新型用于镀膜工艺的喷淋头调平装置,由于采用蜗轮蜗杆副调整机构作为其调整机构,相比现有的采用的螺钉调整机构的喷淋头调平装置,不但提高了调整精度,而且由于其具有自锁功能,蜗杆不能反向移动,因此可以使得调整好位置的喷淋头保持正确位置不发生改变,确保了镀膜工艺的稳定性。 | ||
搜索关键词: | 用于 镀膜 工艺 喷淋 平装 | ||
【主权项】:
一种用于镀膜工艺的喷淋头调平装置,所述喷淋头的一侧对着晶圆,另一侧设有用于对喷淋头进行调平的三组调整机构,其特征在于,每个调整机构采用蜗轮蜗杆副调整机构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201120070314.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种制备高铁酸盐的并联式电解槽
- 下一篇:一种轧辊热处理淬火装置
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的