[实用新型]用于镀膜工艺的喷淋头调平装置有效
申请号: | 201120070314.0 | 申请日: | 2011-03-17 |
公开(公告)号: | CN202054892U | 公开(公告)日: | 2011-11-30 |
发明(设计)人: | 田华;桂鹏 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 镀膜 工艺 喷淋 平装 | ||
技术领域
本实用新型涉及半导体镀膜领域,尤其涉及一种用于镀膜工艺的喷淋头调平装置。
背景技术
在半导体的镀膜工艺中,通常采用喷淋头对着晶圆喷吹高温金属气体,该喷淋头类似于圆盘体,在该喷淋头还设有用于加热金属气体的加热器。为了保证在半导体衬底上形成膜的厚度均匀,需要调整喷淋头的平整度或称水平度,使得喷淋头和半导体衬底相平行。
现有通过三组螺钉组件对喷淋头的平整度进行调整,但其具有如下缺点,一方面螺钉组件的调整精度比较低,另一方面螺钉组件没有自锁功能,当喷淋头调整到正确位置时,在使用过程中,容易发生螺钉组件移位致使喷淋头的位置发生改变,从而影响镀膜的厚度,最终影响产品的良率。
因此,如何提供一种调整精度较高且具有自锁功能的用于镀膜工艺的喷淋头调平装置及其施工方法是本领域技术人员亟待解决的一个技术问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供用于镀膜工艺的喷淋头调平装置,通过蜗轮蜗杆副调整机构不但可以提高调整精度,而且还具有锁功能,防止喷淋头在调整好位置后移位。
为了达到上述的目的,本实用新型采用如下技术方案:
一种用于镀膜工艺的喷淋头调平装置,所述喷淋头的一侧对着晶圆,另一侧设有用于对喷淋头进行调平的三组调整机构,每个调整机构采用蜗轮蜗杆副调整机构。
所述蜗轮蜗杆副调整机构包括蜗轮和蜗杆,所述蜗轮和所述蜗杆相啮合,所述蜗杆的一端与所述喷淋头固定连接,蜗轮转动时带动蜗杆边转动边上下移动。
所述蜗杆的一端通过隔热层与所述喷淋头固定连接。
所述蜗轮通过固定连接轴和手轮固定连接。
所述蜗杆包括相连接的螺杆部和光杆部,所述蜗杆在螺杆部和蜗轮相啮合,所述光杆部的外侧端与所述喷淋头固定连接。
所述蜗杆的外侧设有蜗杆护套,所述蜗轮的外侧设有蜗轮护套,所述蜗杆护套和所述蜗轮护套固定连接。
所述蜗杆护套的外侧端与顶盖固定连接。
所述光杆部的外侧端通过隔热层与所述喷淋头固定连接。
本实用新型的有益效果如下:
本实用新型用于镀膜工艺的喷淋头调平装置,由于采用蜗轮蜗杆副调整机构作为其调整机构,相比现有的采用的螺钉调整机构的喷淋头调平装置,不但可以提高调整精度,而且由于其具有自锁功能,蜗杆不能反向移动,因此可以使得调整好位置的喷淋头保持正确位置不发生改变,确保了镀膜工艺的稳定性。
附图说明
本实用新型的用于镀膜工艺的喷淋头调平装置由以下的实施例及附图给出。
图1为本实用新型实施例的结构示意图;
图2为本实用新型实施例中的一组蜗轮蜗杆副调整机构安装到喷淋头的结构示意图;
图3为本实施例中蜗轮、蜗杆和手轮的安装关系示意图。
图中,1-喷淋头、2-晶圆、3-蜗轮蜗杆副调整机构、31-蜗轮、32-蜗杆、321-螺杆部、322-光杆部、33-蜗轮护套、34-蜗杆护套、35-手轮、4-隔热层、5-顶盖、6-晶圆固定机构、7-法兰。
具体实施方式
以下将对本实用新型的用于镀膜工艺的喷淋头调平装置作进一步的详细描述。
下面将参照附图对本实用新型进行更详细的描述,其中表示了本实用新型的优选实施例,应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本实用新型而仍然实现本实用新型的有利效果。因此,下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道,而并不作为对本实用新型的限制。
为了清楚,不描述实际实施例的全部特征。在下列描述中,不详细描述公知的功能和结构,因为它们会使本实用新型由于不必要的细节而混乱。应当认为在任何实际实施例的开发中,必须作出大量实施细节以实现开发者的特定目标,例如按照有关系统或有关商业的限制,由一个实施例改变为另一个实施例。另外,应当认为这种开发工作可能是复杂和耗费时间的,但是对于本领域技术人员来说仅仅是常规工作。
为使本实用新型的目的、特征更明显易懂,下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步的说明。需说明的是,附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率,仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。
请参阅图1-图3,其中,图1为本实用新型实施例的结构示意图;图2为本实用新型实施例中的一组蜗轮蜗杆副调整机构安装到喷淋头的结构示意图;图3为本实施例中蜗轮、蜗杆和手轮的安装关系示意图。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
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