[实用新型]PECVD沉积腔体吹扫系统

摘要

本实用新型涉及PECVD镀膜设备技术领域，特别是一种PECVD沉积腔体吹扫系统。它包括质量流量控制器以及质量流量控制器两端的管路，在质量流量控制器旁设置导气旁路，在质量流量控制器进气端的管路与导气旁路的交汇处加装保护质量流量控制器的气体控制阀门。现有吹扫系统每次出现掉片只能开腔体解决，严重影响产能，本吹扫系统因为有保护阀门保护质量流量控制器，使N2能以更大的速度和压力通过导气旁路到达特气孔，吹扫掉堵在特气孔上的掉片实现不开腔体解决掉片问题，大大提升机台正常运行时间。

主权项

一种PECVD沉积腔体吹扫系统，包括质量流量控制器(1)以及质量流量控制器(1)两端的管路，其特征是：在所述的质量流量控制器(1)旁设置导气旁路(3)，在质量流量控制器进气端的管路与导气旁路(3)的交汇处加装保护质量流量控制器的气体控制阀门(2)。