[发明专利]掺杂薄膜层在衬底上的连续沉积的气相沉积装置和方法有效

专利信息
申请号: 201110452844.6 申请日: 2011-12-20
公开(公告)号: CN102534509A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: S·D·费尔德曼-皮博迪;M·J·帕沃尔 申请(专利权)人: 初星太阳能公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C16/448;H01L31/18
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 严志军;杨楷
地址: 美国科*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及掺杂薄膜层在衬底上的连续沉积的气相沉积装置和方法,具体而言,提供了用于将升华的源材料作为掺杂的薄膜气相沉积在光伏(PV)模块衬底上的装置和相关的方法。容器设置在真空头室内,并构造为用于接受从第一进料管道供给的源材料。第二进料管道可将掺杂剂材料提供至沉积头中。加热的分配歧管设置在容器下面,并且包括多个贯穿其中限定的通道。容器被分配歧管间接加热至足以使源材料在容器内升华的程度。分配板设置在分配歧管下面,并且位于通过装置传送的衬底的水平面以上的限定距离处,从而将穿过分配歧管的升华的源材料进一步分配到下层衬底的上表面上。
搜索关键词: 掺杂 薄膜 衬底 连续 沉积 装置 方法
【主权项】:
一种用于将升华的源材料作为薄膜气相沉积在光伏(PV)模块衬底上的装置,所述装置包括:沉积头;第一进料管道,其构造为将源材料供给到所述沉积头中;第二进料管道,其构造为将固体掺杂剂材料供给到所述沉积头中;设置在所述沉积头中的容器,所述容器构造为用于从所述第一进料管道接受所述源材料;加热的分配歧管,其构造为加热所述容器;和分配板,其设置在所述容器下面,并位于通过所述装置传送的衬底的上表面的水平传送面上方的限定距离处,所述分配板包括贯穿其中的通道图案。
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