[发明专利]双光轴相位差膜及其制造方法有效
申请号: | 201110449816.9 | 申请日: | 2011-12-29 |
公开(公告)号: | CN103163686A | 公开(公告)日: | 2013-06-19 |
发明(设计)人: | 吴清茂;林思吟 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | G02F1/13363 | 分类号: | G02F1/13363;G02F1/139 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开一种双光轴相位差膜及其制造方法,该双光轴相位差膜包括:一基板,其中基板上包括配向膜,或基板表面经配向处理;及一光学各向异性涂层,位于基板上方,其中光学各向异性涂层包括一下层和一上层,其中:下层为一水平配向液晶层;上层为垂直配向的六角圆柱堆积阵列液晶层,其中光学各向异性涂层三维折射率关系为nx>nz>ny。 | ||
搜索关键词: | 光轴 相位差 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种双光轴相位差膜,包括:基板,其中该基板上包括配向膜,或基板表面经配向处理;及光学各向异性涂层,位于该基板上方,其中该光学各向异性涂层包括一下层和一上层,其中:该下层为一水平配向液晶层;该上层为垂直配向的六角圆柱堆积阵列液晶层,其中该光学各向异性涂层三维折射率关系为nx>nz>ny。
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