[发明专利]阵列基板及其制造方法有效
| 申请号： | 201110439162.1 | 申请日： | 2011-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN102636927A | 公开（公告）日： | 2012-08-15 |
| 发明（设计）人： | 牛菁 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1368;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 韩国胜;王莹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于液晶显示技术领域，特别是涉及阵列基板及其制造方法。本发明中的氧化物薄膜晶体管阵列基板采用透明导电材料作为源极和/或漏极，简化了薄膜晶体管结构，同时提高了使用本发明的液晶显示装置的开口率。本发明中公共电极线与数据线同层设置，减小了公共电极线与像素电极间的距离，增大了存储电容，提高了阵列基板的性能。阵列基板制作中，采用半灰阶掩膜多步刻蚀的方法，使得刻蚀保护膜与数据线通过一次掩膜曝光制得，使阵列基板制作过程只需要进行5次掩膜曝光，简化了工艺，并降低了制作成本。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，包括基板，形成于基板上的薄膜晶体管和形成于基板上的像素电极，其特征在于，所述薄膜晶体管的源极和/或漏极为透明导电材料。
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