[发明专利]一种具有弹性接触的芯片与电极互连结构的制备方法有效

专利信息
申请号: 201110421514.0 申请日: 2011-12-15
公开(公告)号: CN102569107A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 刘景全;芮岳峰;杨斌;杨春生 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60
代理公司: 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人: 郭国中
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开一种具有弹性接触的芯片与电极互连结构的制备方法,首先在硅基底上溅射铬层并旋涂光刻胶,图形化形成小圆柱,将光刻胶形成半球状,然后沉积聚合物薄膜,溅射并图形化金属,沉积聚合物薄膜,图形化露出半球状金属层,以光刻胶为掩膜,依次图形化各层,在半球顶部中心形成小通孔,去除底部半球状光刻胶,形成弹性触点,之后旋涂光刻胶并图形化,形成凹坑,压入芯片与半球状金属触点形成弹性接触,沉积聚合物薄膜固定芯片,释放芯片电极,最后在半球形背部填入填充物并密封。本发明工艺简单、降低了电极在制备过程中断裂的可能性,并增加电极和芯片接触的可靠性,提高整个系统的稳定性,且无需专用设备,降低了工艺成本。
搜索关键词: 一种 具有 弹性 接触 芯片 电极 互连 结构 制备 方法
【主权项】:
一种具有弹性接触的芯片与电极互连结构的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:首先在硅基底上溅射金属铬层并旋涂光刻胶,并图形化光刻胶和铬层形成小圆柱,使光刻胶形成半球状;然后沉积聚合物薄膜作为底层绝缘层,溅射金属并图形化金属作为电极材料,沉积聚合物薄膜作为上层绝缘层,并图形化露出半球状金属层,以光刻胶为掩膜,依次图形化半球状金属层,底层聚合物绝缘层,使其在半球顶部中心位置形成小通孔,并去除底部半球状光刻胶,形成弹性触点;之后旋涂光刻胶并图形化,形成放置芯片凹坑,压入芯片,使其与半球状金属触点形成良好的弹性接触,沉积聚合物薄膜固定芯片,释放芯片电极;最后在半球形背部填入填充物并沉积聚合物薄膜密封,从而实现具有弹性接触的芯片电极的互连。
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