[发明专利]基于乙基撑二氧噻吩和萘四甲酸二酰亚胺结构单元的低能带隙聚合物及其制备和应用方法无效

专利信息
申请号: 201110398268.1 申请日: 2011-12-05
公开(公告)号: CN102492118A 公开(公告)日: 2012-06-13
发明(设计)人: 魏宇峰;张继东;吴晓红;费旭东;赵波;王文青;邱丰;沈波 申请(专利权)人: 中华人民共和国上海出入境检验检疫局
主分类号: C08G61/12 分类号: C08G61/12;H01L51/46
代理公司: 上海交达专利事务所 31201 代理人: 王毓理
地址: 200135 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种化工光电材料技术领域的基于乙基撑二氧噻吩和萘四甲酸二酰亚胺结构单元的低能带隙聚合物及其制备和应用方法,以单体2,5-二(三丁基锡)-3,4-乙撑二氧噻吩和单体N,N’-二-(2’,6’-二异丙基苯基)-2,6-二溴萘-1,4,5,8-四甲酸二酰亚胺的Stille偶联聚合反应,最后得到了分5子量适中的目标交替共聚物P1并进一步采用单体2,5-二溴-3,4-乙撑二氧噻吩参与共聚,用Stille偶联聚合的方法制备出了无规共聚高分子P2发明制备出的两种聚合物具有较低的光学能带隙和较宽泛的光谱吸收,在太阳能电池材料以及其他光电器件中具有很大的应用前景。
搜索关键词: 基于 乙基 二氧 噻吩 甲酸 亚胺 结构 单元 能带 聚合物 及其 制备 应用 方法
【主权项】:
一种共聚物制备方法,其特征在于,通过将N,N’‑二‑(2’,6’‑二异丙基苯基)‑2,6‑二溴萘‑1,4,5,8‑四甲酸二酰亚胺与2,5‑二(三丁基锡)‑3,4‑乙撑二氧噻吩和/或2,5‑二溴‑3,4‑乙撑二氧噻吩单体进行Stille偶联聚合反应,制成无规共聚物或交替共聚物。
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