[发明专利]透明导电层压薄膜、其制造方法以及包含该透明导电层压薄膜的触摸屏有效

专利信息
申请号: 201110379574.0 申请日: 2011-11-07
公开(公告)号: CN102467992A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 李万镐;查理·洪 申请(专利权)人: 株式会社BMC
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14;H01B13/00;B32B27/06;B32B9/04;G06F3/041
代理公司: 上海胜康律师事务所 31263 代理人: 李献忠
地址: 大韩民*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及光透射率高和透射着色少的透明导电层压薄膜、其制造方法以及包含该透明导电层压薄膜的触摸屏。根据本发明,通过包括利用等离子体增强化学气相沉积法在光透明基底上层压包含可调节折射率和厚度的两层结构的层压体的工序,达到如下效果:能够提供构造致密且稳定的透明导电层压薄膜,能够提供可见光透射率高、透射着色少、在高温·高湿度环境中表面电阻变化率小、具有高薄膜耐久性的透明导电层压薄膜,能够提高大面积生产性和降低制造成本。
搜索关键词: 透明 导电 层压 薄膜 制造 方法 以及 包含 触摸屏
【主权项】:
一种透明导电层压薄膜,其包括:光透明基底;利用等离子体增强化学气相沉积法层压在所述光透明基底上至10nm~300nm厚度、包含无机氧化物、具有折射率为1.3~2.5的第一层压体;利用等离子体增强化学气相沉积法层压在所述第一层压体上至10nm~300nm厚度、包含与所述第一层压体所含的无机氧化物不同的无机氧化物的第二层压体;和层压在所述第二层压体上至10~100nm厚度的透明导电层。
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