[发明专利]透明导电层压薄膜、其制造方法以及包含该透明导电层压薄膜的触摸屏

说明书

技术领域

本发明涉及包含具有各不相同的折射率的层压体的透明导电层压薄膜、其制造方法及其用途。

背景技术

触摸屏是安装在显示装置的表面、将用户的手指、触笔等的物理接触转换为电子信号的输出装置，被应用到液晶显示装置(liquid crystal display)、等离子显示屏(plasma display panel)和EL(electro-luminescence)元件等。

这样的触摸屏是信息显示设备的特殊输入装置，根据实现方式分为电阻膜方式、电容方式、超声波方式、红外线方式和弹性波方式等。

最近，在使用量和应用范围扩大的移动设备和导航设备之类的小型便携式设备中，电阻膜方式和数字电容方式的触摸屏已广泛应用。特别是电阻膜方式操作实现容易，制造成本低，大量应用于一般的触摸屏手机和导航设备，然而最近，从现有的只能做标签(Tab)和拖动(Drag)的简单操作的触摸屏触摸方法脱离，将容易实现多种方式的多点触控的电容方式的触摸屏安装在智能手机和高档移动设备的显示器中的行为在一直扩大。

电容方式的触摸屏包含触摸图案层，所述触摸图案层起到对应外部物理接触产生电信号的作用，但在用于电容方式的触摸屏的透明导电薄膜的情况下，必须可见光透射率高、透射着色低且在透明电极图案蚀刻工序后生成的透明电极图案的可见度良好。特别是，用于电容方式的触摸屏的透明导电薄膜为了不失真地表现显示画面的色相，透射着色必须低，在触摸屏产品的结构上在透明电极图案蚀刻工序后生成的图案的可见度必须良好。为了获得低的透射着色性和高的图案可见度，必须使图案透射且肉眼可见的减到最少，为此，需要反射光量减少而透射量增加的层压结构。然而，在现有的触摸屏中使用的透明导电薄膜一般具有对电阻膜方式合适的可见光透射率。在用于克服这一点的多层结构的薄膜情况下，即使是在提高透射率和确保对高温和高湿度(150℃、湿度90％)以及热冲击的耐久性和电阻稳定性的情况下，还存在随着多层膜的层压导致生产时间增加而制造成本增加的问题。

为了解决上述问题，一直以来，形成具有比透明基底的折射率大、比透明导电层的折射率小的中间层，降低透射光的色差仪b*值从而透射色变成黄色和棕色的问题得到了解决，但不能制作在电容方式中使用的具有高透射率的导电层压薄膜。

此外，用于制作具有高透射率的导电层压薄膜的另外其他的现有技术提出了在形成低折射率和高折射率的氧化物薄膜的导电层压薄膜的中间层形成的工序中作为干式工艺用物理气相沉积法(PVD，physical vapor deposition)中溅射(Sputtering)成膜的方法，提高了透射率和耐久性。然而，用溅射法形成具有高折射率和低折射率的两层金属和无机氧化物需要长时间的成膜时间，无法解决在卷对卷(roll-to-roll)方式的连续生产过程中需要增加制造成本的问题。

发明内容

[发明要解决的问题]

本发明提供光透射率高和透射着色低的透明导电层压薄膜，提供即使在高温·高湿的恶劣环境中表面电阻变化率也小和耐久性优异、在提高透明电极图案的可见度的同时能够降低制造成本的透明导电层压薄膜及其制造方法，提供包含所述透明导电层压薄膜的触摸屏。

然而，本发明要解决的问题不限于以上所述问题，没有提及的其他问题，本领域的技术人员也可以从下面的说明中清楚地理解。

[用于解决问题的方法]

为了解决上述问题，本发明的第一方面，提供了一种透明导电层压薄膜，该透明导电层压薄膜包括：光透明基底；利用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)层压在所述光透明基底上至10nm～300nm的厚度、包含无机氧化物、具有折射率为1.3～2.5的第一层压体；利用等离子体增强化学气相沉积法层压在所述第一层压体上至10nm～300nm的厚度、包含与所述第一层压体所含的无机氧化物不同的无机氧化物的第二层压体；和层压在所述第二层压体上至10nm～100nm的厚度的透明导电层。

在一种实施方式中，在所述透明导电层的厚度为50nm以上的情况下，所述第二层压体的折射率比所述第一层压体的折射率大，但不限于此

在一种实施方式中，所述第一层压体和第二层压体的总厚度是50～350nm，但不限于此。

在一种实施方式中，所述第二层压体的色差仪的L、a*、b*值中透射色坐标值为-7＜b*＜2，但不限于此。

在一种实施方式中，所述透明导电层包含氧化铟锡(ITO)、氧化锡锑(ATO)和氧化铟锌(IZO)中的一种以上，但不限于此。