[发明专利]一种管式PECVD设备无效
申请号: | 201110341002.3 | 申请日: | 2011-11-01 |
公开(公告)号: | CN103088320A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | 陈华伟;王广军;沈杨;张琪虎;潘淑阳;陈兵兵;邓雷;尤朝华;吕海强 | 申请(专利权)人: | 洛阳尚德太阳能电力有限公司;无锡尚德太阳能电力有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50 |
代理公司: | 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 黄威;郭迎侠 |
地址: | 471003 河南省*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本发明涉及一种管式PECVD设备,包括上下料区、炉体和控制系统,还设有用于存储从炉体内出来的石墨舟的下料存储区,所述下料存储区设置有对石墨舟进行冷却的冷却装置。本发明克服了采用现有的PECVD设备时,操作人员的工作环境差、工作效率低的缺点,提供一种可大大改善工作环境并提高工作效率的管式PECVD设备。 | ||
搜索关键词: | 一种 pecvd 设备 | ||
【主权项】:
一种管式PECVD设备,包括上下料区、炉体、抽真空系统和控制系统,其特征在于:还设有用于存储从炉体内出来的石墨舟的下料存储区,所述下料存储区设置有对石墨舟进行冷却的冷却装置。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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