[发明专利]薄膜沉积设备以及掩模单元和坩埚单元有效
| 申请号： | 201110319821.8 | 申请日： | 2011-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN102453871A | 公开（公告）日： | 2012-05-16 |
| 发明（设计）人： | 金武谦;朴一秀 | 申请（专利权）人： | 三星移动显示器株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/56;C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 韩明星;薛义丹 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了用于执行连续沉积的薄膜沉积设备以及包括在薄膜沉积设备中的掩模单元和坩埚单元。薄膜沉积设备包括：基底移动单元，被构造成移动作为沉积靶材的基底；掩模单元，被构造成选择地将沉积源的蒸气向基底传送；以及坩埚单元，包括容纳沉积源并沿穿过掩模单元的循环路径行进的多个坩埚。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 沉积 设备 以及 单元 坩埚 | ||
【主权项】：
一种薄膜沉积设备，所述薄膜沉积设备包括：基底移动单元，被构造成移动作为沉积靶材的基底；掩模单元，被构造成选择地将沉积源的蒸气向基底传送；以及坩埚单元，包括容纳沉积源并沿穿过掩模单元的循环路径行进的多个坩埚。
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