[发明专利]快速循环流化床化学气相沉积制备多晶硅的设备及方法有效

专利信息
申请号: 201110304521.2 申请日: 2011-10-10
公开(公告)号: CN102502646A 公开(公告)日: 2012-06-20
发明(设计)人: 张伟刚;于守泉;卢振西 申请(专利权)人: 中国科学院过程工程研究所
主分类号: C01B33/03 分类号: C01B33/03
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 杨志兵;张利萍
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种快速循环流化床化学气相沉积制备多晶硅的设备及方法,属于化工技术领域。所述设备述为快速循环流化床,主要由上升管、多晶硅产品取出口、原料气入口、旋风分离器、气体出口、沉降管、硅晶种加料口、储料罐、物料循环管、流化气入口、反应区温控系统、储料罐温控系统、流量计A和流量计B组成;所述方法为使用所述设备制备多晶硅的方法,通过使含硅原料气热分解或还原产生单质硅并沉积在原料多晶硅颗粒的表面,控制反应温度,使原料多晶硅颗粒逐步长大,得到产品多晶硅粒。所述设备及方法提高了沉积效率,降低了生产成本;提高了原料气的转化率并降低能耗;通过流量计调节流化气速度,可以控制得到粒径均一的产品多晶硅。
搜索关键词: 快速 循环 流化床 化学 沉积 制备 多晶 设备 方法
【主权项】:
一种快速循环流化床化学气相沉积制备多晶硅的设备,其特征在于:所述设备为快速循环流化床,主要由上升管(8)、多晶硅产品取出口(2)、原料气入口(3)、旋风分离器(10)、气体出口(9)、沉降管(12)、硅晶种加料口(11)、储料罐(13)、物料循环管(15)、流化气入口(18)、反应区温控系统(7)、储料罐温控系统(14)、流量计A(4)和流量计B(17)组成;其中,设有阀门的多晶硅产品取出口(2)位于上升管(8)下部并与上升管(8)连通,原料气入口(3)位于多晶硅产品取出口(2)上方,上升管(8)中部,并通过设有流量计A(4)的管路与上升管(8)相连通,原料气入口(3)以上的上升管(8)部分为反应区,反应区设有内置或外置的反应区温控系统(7);上升管(8)顶部与其平行的旋风分离器(10)通过管路连通,旋风分离器(10)顶部设有气体出口(9),旋风分离器(10)底部与沉降管(12)连通,硅晶种加料口(11)与储料罐(13)上方的沉降管(12)连通或直接与储料罐(13)连通,储料罐(13)与沉降管(12)底部连通,储料罐(13)设有内置或外置的储料罐温控系统(14),储料罐(13)底部与上升管(8)通过物料循环管(15)连通,物料循环管(15)与上升管(8)连通处位于原料气入口(3)和多晶硅产品取出口(2)之间;流化气入口(18)通过设有流量计B(17)的管路与上升管(8)底部连通。
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