[发明专利]一种倒装三结InGaN太阳能电池的制备方法有效

专利信息
申请号: 201110281968.2 申请日: 2011-09-21
公开(公告)号: CN102324448A 公开(公告)日: 2012-01-18
发明(设计)人: 刘如彬;孙强;张启明;王帅;康培;高鹏;穆杰 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十八研究所;天津蓝天太阳科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 代理人: 李凤
地址: 300381 天*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及一种倒装三结InGaN太阳能电池的制备方法,包括以下步骤:⑴载体上蒸镀反射层,反射层上溅射两个金属凸点;⑵衬底上依次生成GaN成核层、GaN缓冲层、第一InGaN电池、第一隧道结、第二InGaN电池、第二隧道结、第三InGaN电池、帽层、半透明电流扩展层;⑶第一次光刻;⑷干法蚀刻;⑸第二次光刻;⑹正、负电极蒸镀,构成太阳电池器件;⑺将步骤⑹中正、负电极与步骤⑴中两个金属凸点键合。本发明采用倒装结构、帽层,载体与正、负电极间键合的金属凸点,充分吸收了太阳光谱,外量子效率超过70%,提高了光电转换效率,延长了电池的使用寿命,加强了电池工作的稳定性,并可作为完整的电池直接应用。
搜索关键词: 一种 倒装 ingan 太阳能电池 制备 方法
【主权项】:
一种倒装三结InGaN太阳能电池的制备方法,其特征在于包括以下步骤:⑴ 在载体上蒸镀反射层,并在反射层上溅射两个金属凸点;⑵ 通过金属有机化学气相沉积,在衬底上依次生长GaN成核层、 GaN缓冲层、第一InGaN电池、第一隧道结、第二InGaN电池、第二隧道结、第三InGaN电池、帽层;然后在帽层上蒸镀半透明电流扩展层; ⑶ 第一次光刻:在半透明电流扩展层上光刻出保护区和蚀刻区;⑷ 干法蚀刻:通过干法蚀刻,去掉步骤⑶中蚀刻区的半透明电流扩展层、帽层、第三InGaN电池、第二隧道结电池、第二InGaN电池、第一隧道结、第一InGaN电池的p‑InaGa1‑aN层;⑸ 第二次光刻:在步骤⑶中保护区的半透明电流扩展层上光刻出正电极区域,在步骤⑷中第一InGaN电池的n‑InaGa1‑aN层上刻出负电极区域;⑹电极蒸镀:在步骤⑸中的正电极区域和负电极区域分别蒸镀正电极和负电极,构成太阳电池器件;⑺ 将步骤⑹中的太阳电池器件倒置,并将其正电极和负电极对准步骤⑴中两个金属凸点键合。
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