[发明专利]ZnTe单晶衬底有效

专利信息
申请号: 201110280113.8 申请日: 2006-07-18
公开(公告)号: CN102352536A 公开(公告)日: 2012-02-15
发明(设计)人: 朝日聪明;佐藤贤次;清水孝幸 申请(专利权)人: 日矿金属株式会社
主分类号: C30B29/48 分类号: C30B29/48;C30B33/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 孙秀武;高旭轶
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种光调制元件用的ZnTe单晶衬底,其特征在于,厚度为1mm以上,结晶内所含的析出物的大小为2μm以下,密度小于200cm-3,相对于波长700~1500nm的光线,透光率为50%以上,或者相对于波长900~1500nm的光线,透光率为60%以上,并且没有析出物的区域距离表面为0.9mm以上,其中所述ZnTe单晶衬底是通过熔融液生长法获得的。
搜索关键词: znte 衬底
【主权项】:
一种光调制元件用的ZnTe单晶衬底,其特征在于,厚度为1mm以上,结晶内所含的析出物的大小为2μm以下,密度小于200cm 3,相对于波长700~1500nm的光线,透光率为50%以上,并且没有析出物的区域距离表面为0.9mm以上,其中所述ZnTe单晶衬底是通过熔融液生长法获得的。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日矿金属株式会社,未经日矿金属株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110280113.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top