[发明专利]多元衬底、基于多元衬底的层数连续可调的石墨烯、及其制备方法有效
申请号: | 201110266477.0 | 申请日: | 2011-09-08 |
公开(公告)号: | CN102994976A | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 万冬云;黄富强;林天全;毕辉;谢晓明;江绵恒 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C14/16;C23C16/26;H01L21/02 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 项丹 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及多元衬底、基于多元衬底的层数连续可调的石墨烯、及其制备方法,提供了一种用于层数连续可调的石墨烯的多元衬底,它包括:金属基底,所述金属基底为低溶碳金属M1,或者低溶碳金属M1与高溶碳金属M2的合金M11-x+M2x,式中0<x<0.5;采用磁控溅射法或脉冲激光沉积法覆盖在所述金属基底上的金属薄膜,所述金属薄膜为至少一层高溶碳金属M2,或者低溶碳金属M1与高溶碳金属M2的合金M11-x+M2x,式中1>x>0.5;其中,M1为Cu,M2选自Ru、Ti、Zr、Nb、Ta、Fe、Co、Ni、V、Rh、Pd、Co、lr、Pt、Mo、W、Zn或其组合。还提供了基于该多元衬底的层数连续可调的石墨烯,以及它们的制备方法。 | ||
搜索关键词: | 多元 衬底 基于 层数 连续 可调 石墨 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种用于层数连续可调的石墨烯的多元衬底,它包括:金属基底,所述金属基底为低溶碳金属M1,或者低溶碳金属M1与高溶碳金属M2的合金M11‑x+M2x,式中0<x<0.5;采用磁控溅射法或脉冲激光沉积法覆盖在所述金属基底上的金属薄膜,所述金属薄膜为至少一层高溶碳金属M2,或者低溶碳金属M1与高溶碳金属M2的合金M11‑x+M2x,式中1>x>0.5;其中,M1为Cu,M2选自Ru、Ti、Zr、Nb、Ta、Fe、Co、Ni、V、Rh、Pd、Co、lr、Pt、Mo、W、Zn或其组合。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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